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J-GLOBAL ID：200903032105773549
ナノインプリント用モールドとその製造方法、凹凸パターンの転写方法、凹部を有する部材の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006067011
Publication number (International publication number)：2006303454
Application date： Mar. 13, 2006
Publication date： Nov. 02, 2006
Summary：
【課題】簡略な作製プロセスにより再現性良く作製することができ、繰り返し使用による反りや曲りに対応することが可能となる微細な凹凸パターンを有するモールドとその製造方法、凹凸パターンの転写方法、凹部を有する部材の製造方法を提供する。【解決手段】ナノインプリント用モールドであって、基板10上にレジストで凹凸パターン11を形成し、前記凹凸パターンに、形状記憶性を有する組成の材料12(NiTi合金)を埋め込んで成膜した後、前記凹凸パターンから成膜部を剥離して前記凹凸パターンが転写されたモールド13を得るようにする。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
表面に凹凸パターンを有するナノインプリント用モールドであって、少なくとも前記凹凸パターンを含む表面形状部が、形状記憶性を有する組成の材料によって構成されていることを特徴とするナノインプリント用モールド。
IPC (3)：
H01L 21/027
, B82B 1/00
, B82B 3/00
H01L21/30 502D
, B82B1/00
, B82B3/00
