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J-GLOBAL ID：200903092508886338

金属モールド及びその製造方法並びに陽極酸化ポーラスアルミナとその製造方法

Inventor： 益田 秀樹 ,  西尾 和之 ,  安井 賢志
Applicant, Patent owner： 財団法人神奈川科学技術アカデミー ,  益田 秀樹
Agent (1)： 伴 俊光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003079753
Publication number (International publication number)：2004285422
Application date： Mar. 24, 2003
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

【課題】60nm以下の微細周期で細孔が高度に配列した陽極酸化ポーラスアルミナを得るためのモールドの製造方法,及びこのモールドを用いた陽極酸化アルミナ膜の作製方法を提供する。【解決手段】60nm以下の微細な凹凸が形成されたレジストパターン2に電気めっきの導通層あるいは無電解めっきの触媒層3を付与し、その上にモールド形成用金属4を析出させた後、レジスト材を剥離して金属モールド5を得る。これをアルミニウム6にプレスし、凹凸パターンをアルミニウムの上に転写する。この微細凹凸パターンの周期構造をもつアルミニウムを陽極酸化することにより、規則的な直行細孔7を有する陽極酸化ポーラスアルミナ8を得る。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

レジスト材に形成された凹凸パターンを転写することにより作製された周期60nm以下の凹凸パターンを有する金属モールド。

IPC (3)：

C25D1/00 ,  C25D11/04 ,  C25D11/16

FI (3)：

C25D1/00 381 ,  C25D11/04 302 ,  C25D11/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 微細構造部品の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-092913   Applicant：三菱マテリアル株式会社
• 陽極酸化ポーラスアルミナ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-084709   Applicant：日立マクセル株式会社, 益田秀樹
• 偏光子及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-337221   Applicant：京セラ株式会社
• 特開平2-254192
  
• 多孔性陽極酸化アルミナ膜の作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-229314   Applicant：日本電信電話株式会社
• 細孔を有する構造体の製造方法、並びに該製造方法により製造される構造体及び該構造体を用いた構造体デバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-253821   Applicant：キヤノン株式会社
• 微細構造体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-019245   Applicant：キヤノン株式会社
• 細孔を有する構造体の製造方法及び細孔を有する構造体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-201366   Applicant：キヤノン株式会社