分配選択型光スイッチおよびその製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：谷義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998199036
Publication number (International publication number)：2000029078
Application date： Jul. 14, 1998
Publication date： Jan. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】半導体光増幅媒質の利得変化を利用した光ゲートスイッチが設けられている基板上に分岐光導波路が形成されてなり、入力光信号が前記分岐光導波路により分配され、前記光ゲートスイッチにより所望の出力ポートの光信号だけを選択的に出力する分配選択型光スイッチにおいて、光導波路から光スイッチへの挿入損失の低減を実現する。【解決手段】光ゲートスイッチを基板上に設けた後に、高分子材料を用いて分岐光導波路を前記基板上に形成する。

Claim (excerpt)：

半導体光増幅媒質の利得変化を利用した光ゲートスイッチが設けられている基板上に分岐光導波路が形成されてなり、入力光信号が前記分岐光導波路により分配され、前記光ゲートスイッチにより所望の出力ポートの光信号だけを選択的に出力する分配選択型光スイッチであって、前記分岐光導波路が高分子材料から構成されていることを特徴とする分配選択型光スイッチ。

F-Term (8)：

2K002AB04 , 2K002CA06 , 2K002CA13 , 2K002CA22 , 2K002DA08 , 2K002EA08 , 2K002EA27 , 2K002FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平4-084128
光デバイスと光導波路の集積法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-026888 Applicant：富士通株式会社
光集積回路およびその作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-215533 Applicant：日本電信電話株式会社

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