光集積回路およびその作製方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：光石俊郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994215533
Publication number (International publication number)：1995128531
Application date： Sep. 09, 1994
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】製造が容易で光導波損失も小さく、さらに電子回路上にも光導波路を形成可能な光集積回路及びその作製方法を提供する。【構成】 InP基板1の同一基板上には、発光素子9及び受光素子10と同一の位置合せの手段を講じたマスクを用いて高分子材料からなる高分子光導波路8が形成されてなる。

Claim (excerpt)：

基板上に設けた発光素子及び/又は受光素子と、該発光素子及び/又は受光素子に光結合する高分子導波路とからなることを特徴とする光集積回路。

IPC (2)：

G02B 6/122 , G02B 6/12

FI (2)：

G02B 6/12 B , G02B 6/12 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭51-113646
特開昭55-166990
特開昭54-164146

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