Pat
J-GLOBAL ID:200903032218564253

水素吸蔵合金膜複合体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐藤 隆久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995150646
Publication number (International publication number):1997007584
Application date: Jun. 16, 1995
Publication date: Jan. 10, 1997
Summary:
【要約】【目的】水素吸蔵合金膜の基板からの剥離、脱落を可及的に防止でき、かつ水素吸蔵合金膜の導電性が良好で、厚膜化が可能な水素吸蔵合金膜複合体を提供する。【構成】導電性基板2と、該導電性基板2の表面に立設した導電性仕切壁3と、この導電性仕切壁3間の間隙を埋める如く形成された水素吸蔵合金層4とで構成する。この場合、仕切壁は格子状とすることが好ましい。
Claim (excerpt):
導電性基板と、該導電性基板の表面に立設した導電性仕切壁と、この導電性仕切壁間の間隙を埋める如く形成された水素吸蔵合金層とを具備することを特徴とする水素吸蔵合金膜複合体。
IPC (3):
H01M 4/24 ,  H01M 4/86 ,  H01M 4/90
FI (3):
H01M 4/24 J ,  H01M 4/86 M ,  H01M 4/90 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

Return to Previous Page