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J-GLOBAL ID:200903032312249850

脱リン方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小栗 昌平 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001235015
Publication number (International publication number):2003047973
Application date: Aug. 02, 2001
Publication date: Feb. 18, 2003
Summary:
【要約】【課題】 晶析反応槽において流動層形式でMAP粒子を生成させて脱リンを行うに際し、該反応装置外から別途MAP種晶を添加する必要がなく、かつ該反応槽内でMAP粒子の粒径が一定に維持される方法及び装置を提供する。【解決手段】 晶析法によってリン含有水からリンを除去する方法において、2槽からなる晶析反応槽の各々にリン含有水を供給し、第一晶析反応槽においてリン酸マグネシウムアンモニウムを晶析後、固液分離し、該固液分離における分離液の微細リン酸マグネシウムアンモニウム粒子を第二晶析反応槽に導入し、該微細リン酸マグネシウムアンモニウム粒子表面にリン含有水中のリンを晶析させて粒径を増加させ、該成長粒子を第一晶析反応槽に返送することを特徴とする脱リン方法、及びその装置。
Claim (excerpt):
晶析法によってリン含有水からリンを除去する方法において、2槽からなる晶析反応槽の各々にリン含有水を供給し、第一晶析反応槽においてリン酸マグネシウムアンモニウムを晶析後、流出液を微細リン酸マグネシウムアンモニウム粒子と処理水とに固液分離し、該固液分離した微細リン酸マグネシウムアンモニウム粒子を第二晶析反応槽に導入し、該微細リン酸マグネシウムアンモニウム粒子表面にリン含有水中のリンを晶析させて粒子を成長させ、該成長粒子を第一晶析反応槽に返送することを特徴とする脱リン方法。
F-Term (6):
4D038AA08 ,  4D038AB44 ,  4D038AB48 ,  4D038AB52 ,  4D038BA02 ,  4D038BB18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • リンの除去方法及び装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-137426   Applicant:株式会社荏原製作所
  • 廃水処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-134884   Applicant:宗宮功, 津野洋, 前澤工業株式会社
  • 晶析脱燐装置及びその晶析脱燐方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-225882   Applicant:三菱化工機株式会社
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