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J-GLOBAL ID：200903032313533268

水素選択透過膜

Inventor： 難波 竹巳 ,  伊藤 直次 ,  丹羽 修一 ,  水上 富士夫
Applicant, Patent owner： エヌオーケー株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 吉田 俊夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002066813
Publication number (International publication number)：2003260339
Application date： Mar. 12, 2002
Publication date： Sep. 16, 2003
Summary：

【要約】【課題】 高い分離性能を有し、物理的な接触等による欠陥の発生が少なく、しかも低温での水素脆化による分離性能の低下が抑制され、また共存ガスによる水素透過速度の低下が抑制された水素選択透過性金属膜を用いた水素選択透過膜を提供する。【解決手段】 膜支持体上に水素選択透過性金属膜を形成させ、該金属膜の透過上流側表面が水素選択透過性高分子物質で被覆されている水素選択透過膜。この水素選択透過膜は、膜型反応器として有効に用いられる。

Claim (excerpt)：

膜支持体上に水素選択透過性金属膜を形成させ、該金属膜の透過上流側表面が水素選択透過性高分子物質で被覆されていることを特徴とする水素選択透過膜。

IPC (3)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 71/70 500 ,  C01B 3/56

FI (3)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 71/70 500 ,  C01B 3/56 Z

F-Term (16)：

4D006GA41 ,  4D006HA02 ,  4D006MA01 ,  4D006MA06 ,  4D006MA10 ,  4D006MC02X ,  4D006MC65X ,  4D006NA31 ,  4D006NA45 ,  4D006NA46 ,  4D006PB66 ,  4D006PC69 ,  4G140FA06 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 高純度水素の製造方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-136872   Applicant：チョンクオシーユーグーフウンユーシェンコンシー
• 特開昭62-186922
  
• 特開昭62-227409