光断層イメージング装置

Inventor： , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊藤進
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001367817
Publication number (International publication number)：2002221486
Application date： Nov. 19, 1992
Publication date： Aug. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】低干渉性光の光ファイバへの入射角度や被検体への照射角度が垂直でない場合であっても高精度な断層像を得る。【解決手段】低干渉性光を被検体側へ導光し、反射光を導光する複数の光ファイバを有する導光手段を備え、所定の光ファイバの端面に対して低干渉性光を垂直な状態で順次導光して出射位置を変化させると共に、被検体側で反射された反射光を順次検出し、検出した反射光と前記低干渉性光から生成した基準光とを干渉させて、干渉した干渉光に対応する干渉信号を抽出し前記干渉信号に対する信号処理を行うと共に、光走査手段及び前記基準光側又は反射光側の光伝搬時間を変化させる光伝搬時間変化手段により被検体の深さ方向の断層像を構築する。

Claim (excerpt)：

低干渉性光を発生させる低干渉性光発生手段と、前記低干渉性光発生手段により発生する低干渉性光を被検体側へ導光して被検体側で反射された反射光を導光するための複数の光ファイバを有する導光手段と、前記複数の光ファイバのうち所定の光ファイバの端面に対して前記低干渉性光を垂直な状態で順次導光して出射位置を変化させると共に、被検体側で反射された反射光を順次検出するための光走査手段と、前記光走査手段で検出した反射光と前記低干渉性光から生成した基準光とを干渉させて、干渉した干渉光に対応する干渉信号を抽出する干渉光抽出手段と、前記基準光側又は反射光側の光伝搬時間を変化させる光伝搬時間変化手段と、前記干渉信号に対する信号処理を行うと共に、前記光走査手段及び前記光伝搬時間変化手段により前記被検体の深さ方向の断層像を構築する信号処理手段と、を有することを特徴とする光断層イメージング装置。

IPC (3)：

G01N 21/17 625 , G01N 21/17 620 , A61B 10/00

FI (3)：

G01N 21/17 625 , G01N 21/17 620 , A61B 10/00 E

F-Term (26)：

2G059AA05 , 2G059AA06 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059EE09 , 2G059FF02 , 2G059FF06 , 2G059GG02 , 2G059GG03 , 2G059GG06 , 2G059GG10 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH06 , 2G059JJ07 , 2G059JJ11 , 2G059JJ12 , 2G059JJ13 , 2G059JJ17 , 2G059JJ19 , 2G059KK01 , 2G059MM09 , 2G059MM10 , 2G059NN06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

特開平4-310568
光断層イメージング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-310568 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
特開昭58-214842

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