電子顕微鏡あるいはその類似装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999206723
Publication number (International publication number)：2000106121
Application date： Jul. 21, 1999
Publication date： Apr. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】X線マッピングが可能なTEM/SEMにおいて、X線マッピング時の試料ドリフトを自動的に補正する。【解決手段】X線マッピングを行うに際して、最初の1回目の走査時に、試料4上の走査領域のSEM像を基準像として記憶しておく。その後、所定回数の走査を行ったら、そのときのSEM像を得、それを比較対象像とする。そして、基準像と比較対象像とで相互相関関数を演算して、比較対象像が基準像からどの方向にどれだけずれているかを求め、そのずれをキャンセルするように電子ビーム11偏向系5を制御して試料ドリフトを補正する。そして、この試料ドリフトの補正の処理を所定回数の走査毎に行う。

Claim (excerpt)：

集束電子ビームを二次元的に走査しながら試料上の所望の領域に照射して、該領域からの所望の第1の信号を検出して、これを基に第1の二次元像を得る電子顕微鏡あるいはその類似装置において、前記走査を繰り返し行い、その間、前記第1の信号を積算することによって前記第1の二次元像を得る測定を行う場合、該測定の開始の時点において、前記第1の信号とは異なる前記領域からの第2の信号に基づく第2の二次元像を得、これを基準像とし、前記測定の進行に伴って、前記第2の信号に基づく第2の二次元像を逐次得、これを比較対照像とし、該比較対照像を前記基準像と逐次比較して、前記基準像からの像の位置ずれの方向、量を求め、その求めた像の位置ずれの方向、量に基づいて前記電子ビームの走査領域を変更する手段を備えたことを特徴とする電子顕微鏡あるいはその類似装置。

IPC (4)：

H01J 37/22 502 , G21K 5/04 , H01J 37/252 , H01J 37/28

FI (5)：

H01J 37/22 502 F , G21K 5/04 M , H01J 37/252 A , H01J 37/28 C , H01J 37/28 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

電子線分析装置及び電子線分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-325059 Applicant：株式会社日立製作所

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