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J-GLOBAL ID：200903032441073288

複合酸化物薄膜およびその製造法

Inventor：
古賀 正太郎

About 古賀 正太郎


Applicant, Patent owner：
エヌオーケー株式会社

About エヌオーケー株式会社


Agent (1)： 吉田 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998169398
Publication number (International publication number)：1999076836
Application date： Jun. 17, 1998
Publication date： Mar. 23, 1999
Summary：
【要約】【課題】 TiO2やZrO2等の単体で観察される吸収端波長とは異なる波長で強い吸収を示し、殺菌灯(波長254nm)の照射によって光触媒活性を示す複合酸化物薄膜およびその製造法を提供する。【解決手段】 酸化チタンおよび禁制帯幅3.2eV以上の酸化チタン以外の金属酸化物からなる複合酸化物薄膜。かかる複合酸化物薄膜は、有機チタン化合物および酸化物が3.2eV以上の禁制帯幅を有するチタン以外の金属の有機金属化合物の混合物有機溶媒溶液に無機酸または有機酸を添加してチタンおよび他の金属を含有する加水分解ゾルを形成させ、このゾルを基板上に塗布してゲル膜を形成させた後、約300〜1200°Cの温度で加熱処理することによって製造される。
Claim (excerpt)：
酸化チタンおよび禁制帯幅3.2eV以上の酸化チタン以外の金属酸化物からなる複合酸化物薄膜。
IPC (5)：
B01J 35/02 ZAB ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/20 ,  B01J 21/06 ZAB ,  C01G 23/04
FI (5)：
B01J 35/02 ZAB J ,  A61L 9/00 C ,  A61L 9/20 ,  B01J 21/06 ZAB A ,  C01G 23/04 C
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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