光触媒組成物とその製造方法および光触媒組成物付き基体

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：泉名謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996331272
Publication number (International publication number)：1997225303
Application date： Dec. 11, 1996
Publication date： Sep. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】光触媒活性に優れ、光触媒層の強度が向上した光触媒組成物とその製造方法および光触媒組成物付き基体の提供。【解決手段】半導体光触媒物質と該半導体光触媒物質に分散された酸化物微粒子とからなる光触媒組成物であって、光触媒組成物のバンドギャップが半導体光触媒物質単体のバンドギャップよりも0.05eV以上大きい光触媒組成物とその製造方法および光触媒組成物付き基体。

Claim (excerpt)：

半導体光触媒物質と該半導体光触媒物質に分散された酸化物微粒子とからなる光触媒組成物であって、光触媒組成物のバンドギャップが半導体光触媒物質単体のバンドギャップよりも0.05eV以上大きいことを特徴とする光触媒組成物。

IPC (13)：

B01J 21/06 ZAB , A61L 9/00 , A61L 9/01 , B01D 53/86 ZAB , B01J 23/06 , B01J 23/08 , B01J 23/14 , B01J 23/18 , B01J 23/30 , B01J 23/745 , B01J 35/02 , C03C 17/25 , B08B 17/02

FI (13)：

B01J 21/06 ZAB A , A61L 9/00 C , A61L 9/01 E , B01J 23/06 A , B01J 23/08 A , B01J 23/14 A , B01J 23/18 A , B01J 23/30 A , B01J 35/02 J , C03C 17/25 A , B08B 17/02 , B01D 53/36 ZAB J , B01J 23/74 301 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

耐水性白色エチレン分解触媒、その製造方法およびエチレン分解装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-354314 Applicant：日揮ユニバーサル株式会社
光触媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-146616 Applicant：日本電池株式会社
光反応促進用チタン酸化物触媒の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-168003 Applicant：三菱重工業株式会社

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