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J-GLOBAL ID：200903032488171016

複合材料およびその製造方法

Inventor：
小嶋 克宏

About 小嶋 克宏

, 
野殿 光史

About 野殿 光史


Applicant, Patent owner：
三菱レイヨン株式会社

About 三菱レイヨン株式会社


Agent (7)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004378255
Publication number (International publication number)：2006182603
Application date： Dec. 27, 2004
Publication date： Jul. 13, 2006
Summary：
【課題】 基材上に炭素薄膜を形成する際の熱処理による膜厚の減少が抑制された複合材料およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基材表面に、ポリアクリロニトリル系重合体が0.1分子/nm2以上のグラフト密度でグラフトした高密度高分子膜を形成し、該高密度高分子膜を熱処理して炭素薄膜を形成する。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
基材と、該基材の表面を被覆する炭素薄膜とからなる複合材料の製造方法であって、 前記基材表面に、ポリアクリロニトリル系重合体が0.1分子/nm2以上のグラフト密度でグラフトした高密度高分子膜を形成し、該高密度高分子膜を熱処理して炭素薄膜を形成することを特徴とする複合材料の製造方法。
IPC (3)：
C01B 31/02 ,  C08F 292/00 ,  C23C 20/06
FI (3)：
C01B31/02 101A ,  C08F292/00 ,  C23C20/06
F-Term (52)：
4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AD17 ,  4G146AD22 ,  4G146AD23 ,  4G146AD24 ,  4G146AD31 ,  4G146BA11 ,  4G146BA40 ,  4G146BA49 ,  4G146BB04 ,  4G146BB06 ,  4G146BB10 ,  4G146BB15 ,  4G146BB22 ,  4G146BC23 ,  4G146BC32B ,  4G146BC33B ,  4J026AC00 ,  4J026DB06 ,  4J026DB09 ,  4J026DB11 ,  4J026DB19 ,  4J026EA03 ,  4J026EA06 ,  4J026FA05 ,  4J026GA02 ,  4J026GA08 ,  4K022AA02 ,  4K022AA04 ,  4K022AA05 ,  4K022AA19 ,  4K022AA23 ,  4K022AA41 ,  4K022AA43 ,  4K022BA05 ,  4K022BA31 ,  4K022DA06 ,  5H018AA01 ,  5H018BB01 ,  5H018BB16 ,  5H018DD08 ,  5H018EE05 ,  5H018EE17 ,  5H018HH05 ,  5H050AA19 ,  5H050BA08 ,  5H050CB07 ,  5H050GA02 ,  5H050GA11 ,  5H050HA08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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