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J-GLOBAL ID：200903032516764478

可視光応答型光触媒の製造方法

Inventor： 生田 智章 ,  小田 耕平 ,  青木 薫
Applicant, Patent owner： 鳥取県金属熱処理協業組合 ,  独立行政法人国立高等専門学校機構
Agent (1)： 田邊 義博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006118581
Publication number (International publication number)：2007289821
Application date： Apr. 21, 2006
Publication date： Nov. 08, 2007
Summary：

【課題】低温度領域で可視光応答型光触媒を製造することができ、かつ、質の高い光触媒を得ることができる可視光応答型光触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】基台22にTi基板(20×20mm)を載置し、真空チャンバ2内に二酸化窒素(NO2)を供給し、その濃度を33%に保った。また、真空チャンバ2内の圧力は200Paとした。そして、Ti基板の温度を種々に変更してプラズマ窒化処理を行った。処理後のTi基板を調べた結果、200°Cに保ってプラズマ窒化処理を行ったTi基板の性能が最も良かったことが確認できた。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

可視光の照射に応答して光触媒反応を起こす可視光応答型光触媒の製造方法であって、 窒素酸化物雰囲気中においてチタン材に対してプラズマ窒化処理を施し、当該プラズマ窒化処理中はチタン材の温度を100°C〜300°Cに保つようにすることを特徴とする可視光応答型光触媒の製造方法。

IPC (3)：

B01J 35/02 ,  B01J 27/24 ,  B01D 53/86

FI (3)：

B01J35/02 J ,  B01J27/24 M ,  B01D53/36 J

F-Term (33)：

4D048AA19 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA46X ,  4D048BB03 ,  4D048EA01 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA18 ,  4G169BA48A ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB11A ,  4G169BB11B ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC50C ,  4G169BD02C ,  4G169BD06C ,  4G169CA10 ,  4G169CA17 ,  4G169EA12 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FA05 ,  4G169FB02 ,  4G169FC06 ,  4G169FC07 ,  4G169HA02 ,  4G169HB01 ,  4G169HC02 ,  4G169HD13 ,  4G169HE07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 光触媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-018551   Applicant：株式会社豊田中央研究所
• 可視光光触媒活性を有する酸化チタンの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-207965   Applicant：エコデバイス株式会社
• 特許第3498739号公報
  

Cited by examiner (3)

• 光触媒被膜を有する複合材料の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-125242   Applicant：JFEスチール株式会社, 株式会社アルバック
• 光触媒体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-074369   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
• 可視光応答型光触媒体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-418243   Applicant：トヨタ自動車株式会社, 学校法人トヨタ学園