Pat
J-GLOBAL ID:200903073710547435
可視光応答型光触媒体の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003418243
Publication number (International publication number):2005177548
Application date: Dec. 16, 2003
Publication date: Jul. 07, 2005
Summary:
【課題】基材表面に形成されている紫外線応答型酸化チタン光触媒膜を、基材の温度を250°C以上に上げることなく、可視光応答型光触媒膜に改質する可視光応答型光触媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の可視光応答型光触媒体の製造方法は、基材表面に形成された酸化チタン光触媒膜を、少なくとも窒素を含むガスを解離・電離・励起して生成された窒素原子を含むプラズマ中で窒化処理することにより、前記酸化チタン光触媒膜の表層部を可視光応答型光触媒に改質することを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基材表面に形成された酸化チタン光触媒膜を、少なくとも窒素を含むガスを解離・電離・励起して生成された窒素原子を含むプラズマ中で窒化処理することにより、前記酸化チタン光触媒膜の表層部を可視光応答型光触媒に改質することを特徴とする可視光応答型光触媒体の製造方法。
IPC (4):
B01J35/02
, B01J37/34
, C23C14/08
, C23C14/58
FI (4):
B01J35/02 J
, B01J37/34
, C23C14/08 E
, C23C14/58 C
F-Term (21):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069BB11A
, 4G069BB11B
, 4G069BD06A
, 4G069BD06B
, 4G069CA10
, 4G069EA08
, 4G069FB02
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA48
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA02
, 4K029CA05
, 4K029EA08
, 4K029GA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (7)
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光触媒被膜を有する複合材料の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-125242
Applicant:JFEスチール株式会社, 株式会社アルバック
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光触媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-074369
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
-
窒化膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-362366
Applicant:トヨタ自動車株式会社, 学校法人トヨタ学園
-
電子ビーム励起プラズマを用いた窒化処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-397584
Applicant:川崎重工業株式会社
-
光触媒膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-104914
Applicant:シャープ株式会社, 大阪府, シービーシーイングス株式会社
-
光触媒体の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-319550
Applicant:シャープ株式会社, 大阪府
-
光触媒性コーティング剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-026141
Applicant:東陶機器株式会社
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