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J-GLOBAL ID:200903073710547435

可視光応答型光触媒体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003418243
Publication number (International publication number):2005177548
Application date: Dec. 16, 2003
Publication date: Jul. 07, 2005
Summary:
【課題】基材表面に形成されている紫外線応答型酸化チタン光触媒膜を、基材の温度を250°C以上に上げることなく、可視光応答型光触媒膜に改質する可視光応答型光触媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の可視光応答型光触媒体の製造方法は、基材表面に形成された酸化チタン光触媒膜を、少なくとも窒素を含むガスを解離・電離・励起して生成された窒素原子を含むプラズマ中で窒化処理することにより、前記酸化チタン光触媒膜の表層部を可視光応答型光触媒に改質することを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基材表面に形成された酸化チタン光触媒膜を、少なくとも窒素を含むガスを解離・電離・励起して生成された窒素原子を含むプラズマ中で窒化処理することにより、前記酸化チタン光触媒膜の表層部を可視光応答型光触媒に改質することを特徴とする可視光応答型光触媒体の製造方法。
IPC (4):
B01J35/02 ,  B01J37/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58
FI (4):
B01J35/02 J ,  B01J37/34 ,  C23C14/08 E ,  C23C14/58 C
F-Term (21):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB11A ,  4G069BB11B ,  4G069BD06A ,  4G069BD06B ,  4G069CA10 ,  4G069EA08 ,  4G069FB02 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA48 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA02 ,  4K029CA05 ,  4K029EA08 ,  4K029GA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 国際公開W001/010552号公報
Cited by examiner (7)
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