排ガス処理方法およびそのための装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (7)：曾我道照 , 曾我道治 , 池谷豊 , 古川秀利 , 鈴木憲七 , 梶並順 , 白石泰三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002173783
Publication number (International publication number)：2004016892
Application date： Jun. 14, 2002
Publication date： Jan. 22, 2004
Summary：

【課題】OHラジカルを高効率で生成することができ、オゾン化ガスおよび過酸化水素の供給量を抑制することができ、コストの低下が可能となる排ガス処理方法およびそのための装置の提供。【解決手段】オゾン化ガス、過酸化水素および水を含む活性水を、排ガス通路を流れる排ガスと接触させ、排ガスに含まれる被処理成分を分解する排ガス処理方法において、活性水が、オゾン化ガスの導入された混合反応器1dに過酸化水素を噴霧し、OHラジカル生成反応を促進し、続いて水と混合して得られたものである排ガス処理方法およびそのための装置。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

オゾン化ガス、過酸化水素および水を含む活性水を、排ガス通路を流れる排ガスと接触させ、前記排ガスに含まれる被処理成分を分解する排ガス処理方法において、前記活性水が、前記オゾン化ガスの導入された混合反応器に前記過酸化水素を噴霧し、OHラジカル生成反応を促進し、続いて前記水と混合して得られたものであることを特徴とする排ガス処理方法。

IPC (11)：

B01D53/70 , B01D53/56 , B01D53/66 , B01F3/02 , B01F5/02 , B01F5/04 , B01F11/02 , B01F15/04 , B01F15/06 , C02F1/72 , C02F1/78

FI (11)：

B01D53/34 134E , B01F3/02 , B01F5/02 Z , B01F5/04 , B01F11/02 , B01F15/04 D , B01F15/06 Z , C02F1/72 Z , C02F1/78 , B01D53/34 120B , B01D53/34 129B

F-Term (43)：

4D002AA11 , 4D002AA12 , 4D002AA21 , 4D002AC04 , 4D002BA05 , 4D002BA06 , 4D002CA11 , 4D002CA13 , 4D002DA07 , 4D002DA51 , 4D002DA52 , 4D002DA70 , 4D002EA02 , 4D002EA06 , 4D002GA01 , 4D002GA02 , 4D002GA03 , 4D002GB01 , 4D002GB03 , 4D002GB05 , 4D050AA01 , 4D050BB02 , 4D050BB09 , 4D050BD04 , 4D050BD06 , 4G035AB02 , 4G035AB20 , 4G035AC14 , 4G035AC23 , 4G035AC55 , 4G035AE02 , 4G035AE13 , 4G035AE15 , 4G036AB22 , 4G037BA02 , 4G037BA03 , 4G037BB06 , 4G037BC02 , 4G037BD04 , 4G037BD09 , 4G037CA11 , 4G037CA18 , 4G037EA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

排ガス処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-220037 Applicant：三菱電機株式会社
空気の清浄化方法とその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-323749 Applicant：松下精工株式会社, 野村マイクロ・サイエンス株式会社
ダイオキシン含有ガスの処理装置および処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-120669 Applicant：三菱電機株式会社

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