試料の幾何学的厚さおよび屈折率測定装置およびその測定方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998356734
Publication number (International publication number)：2000180124
Application date： Dec. 15, 1998
Publication date： Jun. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】試料の幾何学的厚さおよび屈折率を迅速かつ確実に測定する。【解決手段】 LD11からの光が周波数シフタ12において一対の分離光に分けられ、一方の分離光は偏光ビームスプリッタ17から参照鏡18に向って反射され、他方の分離光は偏光ビームスプリッタ17から試料20に向って反射される。一対の分離光は、その後干渉光となって検出器25により干渉信号を発生させる。検出器25における干渉光は、RMS-DC変換器32によりその振幅が求められ、ゼロクロスコンパレータ27、位相計28およびロックインアンプ29により位相変調率が求められる。演算部35において、振幅のピークに基づいて焦点が試料20の一面から他面へ移るのに必要な移動距離が求められ、位相変調率に基づいて光路の増加分が求められる。次にこの移動距離と光路の増加分に基づいて、試料の幾何学的厚さおよび屈折率が求められる。

Claim (excerpt)：

試料に対して周波数可変光を投光する光源と、光源からの光を偏光の相違により一対の分離光に分けるとともに、各分離光の周波数を変化させる周波数シフタと、周波数シフタと試料との間の光路中に配置された偏光ビームスプリッタと、周波数シフタと試料との間の光路と交差するとともに偏光ビームスプリッタを通る直線上において、偏光ビームスプリッタの一側に配置された参照鏡と、偏光ビームスプリッタの他側に配置され偏光ビームスプリッタを通り参照鏡から反射する一方の分離光と、偏光ビームスプリッタを通り試料から反射する他方の分離光との干渉により生じる干渉信号を検出する検出器と、検出器からの干渉信号に基づいて振幅を求める振幅検出部と、検出器からの干渉信号に基づいて位相変調率信号を求める位相変調率信号検出部と、振幅検出部からの振幅に基づいて、他方の分離光の焦点が試料の一面から他面へ移るのに必要な試料の移動距離を求めるとともに、位相変調信号検出部からの位相変調率信号に基づいて焦点が試料の一面から他面へ移る際の他方の分離光の光路長の増加分を求め、この移動距離および光路長の増加分に基づいて試料の幾何学的厚さおよび屈折率を求める演算部と、を備えたことを特徴とする試料の幾何学的厚さおよび屈折率測定装置。

IPC (2)：

G01B 11/02 , G01N 21/45

FI (2)：

G01B 11/02 G , G01N 21/45 A

F-Term (41)：

2F065AA09 , 2F065AA30 , 2F065BB01 , 2F065BB22 , 2F065CC00 , 2F065DD06 , 2F065FF52 , 2F065GG06 , 2F065GG25 , 2F065JJ17 , 2F065LL30 , 2F065LL33 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065LL57 , 2F065MM03 , 2F065NN06 , 2F065NN08 , 2F065PP12 , 2F065QQ25 , 2F065QQ29 , 2F065QQ30 , 2F065QQ32 , 2G059AA02 , 2G059BB08 , 2G059CC20 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059FF06 , 2G059GG01 , 2G059GG04 , 2G059HH02 , 2G059HH06 , 2G059JJ11 , 2G059JJ19 , 2G059JJ21 , 2G059JJ22 , 2G059JJ30 , 2G059KK02 , 2G059MM01 , 2G059MM03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

積層構造体の層厚および屈折率の測定方法およびその測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-155828 Applicant：理化学研究所
光ヘテロダイン干渉を用いた高さ形状測定方法及び測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-101545 Applicant：シチズン時計株式会社

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