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J-GLOBAL ID：200903032741753752

微小部分析装置及び分析方法

Inventor： 矢口 紀恵 ,  上野 武夫 ,  橋本 隆仁
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立サイエンスシステムズ
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000269237
Publication number (International publication number)：2002083564
Application date： Sep. 05, 2000
Publication date： Mar. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】 軽元素のEDX分析を高精度で行う。【解決手段】 EDX分析装置を装着した電子線装置に、SEM像及び暗視野STEM像を同時に表示し、SEM像及びSTEM像の各画素における信号量を比較し、信号量の差が大きくないとき分析対象物が試料表面に存在すると判断してEDX分析を行う。

Claim (excerpt)：

電子銃から発生した電子線を試料面上で走査させる手段と、試料から発生した二次電子により形成される二次電子像を表示する二次電子像表示手段と、試料を透過した電子線により形成される走査透過電子像を表示する走査透過電子像表示手段と、試料から発生した特性X線を検出し分析するX線分析手段と、前記X線分析手段による分析指定箇所に対応する前記二次電子像の画素の二次電子信号量と前記走査透過電子像の画素の透過電子信号量とを比較する比較手段とを備えることを特徴とする微小部分析装置。

IPC (5)：

H01J 37/252 ,  G01N 23/04 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/22 502 ,  H01J 37/28

FI (6)：

H01J 37/252 A ,  G01N 23/04 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/22 502 H ,  H01J 37/28 C ,  H01J 37/28 B

F-Term (25)：

2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001BA11 ,  2G001BA30 ,  2G001CA03 ,  2G001DA02 ,  2G001DA06 ,  2G001DA10 ,  2G001EA03 ,  2G001FA06 ,  2G001GA04 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA11 ,  2G001JA13 ,  2G001JA16 ,  2G001KA01 ,  5C033PP05 ,  5C033PP06 ,  5C033SS04 ,  5C033SS07 ,  5C033UU04 ,  5C033UU05 ,  5C033UU06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭57-196463
  
• 特開昭57-036763
  
• 電子顕微鏡あるいはその類似装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-206723   Applicant：日本電子株式会社