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J-GLOBAL ID:200903032864318082

ポリイミドエーロゲル、炭素エーロゲル、及び金属炭化物エーロゲル並びにこれらの製造方法。

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐伯 憲生
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2004523391
Publication number (International publication number):2005533893
Application date: Jul. 22, 2003
Publication date: Nov. 10, 2005
Summary:
芳香族酸2無水物及び芳香族ジアミン又は芳香族及び脂肪族ジアミンの複合体からなる、ポリイミドエーロゲルの製造方法が記載されている。剛性の芳香族ジアミン及び芳香族酸2無水物からなるポリイミドエーロゲルから得られる炭素エーロゲルの製造方法も記載されている。最後に、剛性の芳香族ジアミン及び芳香族2無水物からなるポリイミドエーロゲルから得られる、高度に分散された金属クラスターが含浸している炭素エールゲル又はキセロゲル-エーロゲル混成物、及び金属炭化物エーロゲルの製造方法が記載されている。ポリイミドエーロゲル及びポリイミドエーロゲル誘導体は、平均孔径が10から30nmで孔径分布が単一に分散している、相互貫通したメソポアーからなっている。ゲル密度は0.008g/ccよりも小さく、利用し得る表面積は1300m2/g程度である。
Claim (excerpt):
ジアミンモノマー及び芳香族酸二無水物モノマーを溶媒中でポリアミド酸の形成を誘導する条件下で接触させる;該ポリアミド酸を第1溶媒中で脱水剤と接触させてイミド化によってポリイミドゲルを形成する;及び該ポリイミドゲルを超臨界CO2の存在下に乾燥してポリイミドエーロゲルを得る;ことを含んでなるポリイミドエーロゲルを製造する方法。
IPC (2):
C08G73/10 ,  H01M4/90
FI (2):
C08G73/10 ,  H01M4/90 Z
F-Term (37):
4J043PA04 ,  4J043QB26 ,  4J043QB31 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SB01 ,  4J043TA22 ,  4J043TB01 ,  4J043UA122 ,  4J043UA132 ,  4J043UA262 ,  4J043UB152 ,  4J043UB402 ,  4J043VA01 ,  4J043VA05 ,  4J043YA08 ,  4J043YA09 ,  4J043ZA12 ,  4J043ZB47 ,  5H018AA01 ,  5H018AS00 ,  5H018BB01 ,  5H018BB05 ,  5H018BB06 ,  5H018BB12 ,  5H018BB16 ,  5H018DD05 ,  5H018EE02 ,  5H018EE03 ,  5H018EE04 ,  5H018EE05 ,  5H018EE11 ,  5H018EE16 ,  5H018HH02 ,  5H018HH04 ,  5H018HH05 ,  5H018HH08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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