赤外線水分測定装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：瀧野秀雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993074500
Publication number (International publication number)：1994288904
Application date： Mar. 31, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】赤外線水分測定装置において塩等の粒度の違いによる測定水分値のドリフトを低減する。【構成】光学系1において回転ディスク13の干渉フィルタ13aで水分測定赤外線と粒度測定赤外線を分光する。粒度測定赤外線は波長帯域1680±100nm,2310±100nmとする。水分測定赤外線を被測定物Sに照射して反射光を赤外線検出器18で光電変換する。粒度測定赤外線を被測定物Sに照射して反射光を赤外線検出器18で光電変換する。アナログ処理部2で信号の同期をとって水分測定赤外線の電圧信号と粒度測定赤外線の電圧信号をデジタル処理部3に入力し、粒度測定赤外線の電圧信号から粒度を演算する、演算した粒度から水分測定の検量線を選択する。選択された検量線に基づいて水分測定赤外線の電圧信号から水分値を演算する。

Claim (excerpt)：

被測定物の含水量により赤外線吸収量が変化する水分測定赤外線と被測定物の粒度により赤外線吸収量が変化する粒度測定赤外線とを被測定物に照射するとともにこの被測定物からのこれら赤外線の反射光を受光する光学系と、前記光学系で受光した前記水分測定赤外線の反射光量と予め設定された検量線の情報とに基づいて水分値を演算する水分値演算手段と、前記光学系で受光した前記粒度測定赤外線の反射光量に基づいて前記水分値演算手段における水分値を補正する補正手段と、を備えたことを特徴とする赤外線水分測定装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

整流器回路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-118979 Applicant：エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペンファブリケン
電源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-220666 Applicant：東京電気株式会社

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