パターン欠陥検査装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：作田康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999362216
Publication number (International publication number)：2001176942
Application date： Dec. 21, 1999
Publication date： Jun. 29, 2001
Summary：

【要約】【課題】紫外レーザ光源の発熱や振動による発振不良などの課題を解消し、微細な回路パターンを高分解能で検出する装置を提供する。【解決手段】紫外レーザ装置と光学系を分離して設置し、レーザビームの変動を可視化する観察手段と補正手段を設けた。

Claim (excerpt)：

紫外光で半導体回路パターンを照明し、該回路パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検査装置において、レーザ光源と、該レーザ光源から射出されたレーザ光の可干渉性を低減する可干渉低減手段と、該可干渉低減手段を通過したレーザ光を対物レンズの瞳位置に集光させる集光手段と、該集光手段により前記対物レンズの瞳上に集光されたレーザ光を、前記集光手段と対物レンズに至るまでの光路中に配置した観察手段により、対物レンズ瞳上に集光されたレーザ光を観察可能にしたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (3)：

H01L 21/66 , G01B 11/30 , G01N 21/956

FI (3)：

H01L 21/66 J , G01B 11/30 A , G01N 21/956 A

F-Term (51)：

2F065AA49 , 2F065BB18 , 2F065CC18 , 2F065CC19 , 2F065FF04 , 2F065GG04 , 2F065GG22 , 2F065HH09 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL08 , 2F065LL09 , 2F065LL12 , 2F065LL13 , 2F065LL32 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ23 , 2F065UU01 , 2F065UU07 , 2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BB07 , 2G051BC05 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CC20 , 2G051CD03 , 2G051DA08 , 2G051EA11 , 2G051EB03 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106AA20 , 4M106BA05 , 4M106BA07 , 4M106CA39 , 4M106DB01 , 4M106DB04 , 4M106DB08 , 4M106DB14 , 4M106DJ04 , 4M106DJ05 , 4M106DJ23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

外観検査方法および装置ならびに半導体装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-245861 Applicant：株式会社日立製作所
半導体基板の製造方法並びに被検査対象物上のパターンの欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-139198 Applicant：株式会社日立製作所
レーザ顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-072503 Applicant：ソニー株式会社

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