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J-GLOBAL ID：200903033230971731

全反射減衰を利用した測定方法および測定装置

Inventor：
納谷 昌之

About 納谷 昌之


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002284122
Publication number (International publication number)：2004117298
Application date： Sep. 27, 2002
Publication date： Apr. 15, 2004
Summary：
【課題】光ビームを大きな断面積を有する平行光束として測定面に入射させ、該測定面で反射した光ビームの中の所定波長の光ビームの断面の光強度分布を検出する測定装置において、迷光を低減し、かつ小型な装置を実現する。【解決手段】十分な断面積を有する平行光束である光ビームLを、誘電体プリズム11上の金属薄膜12との界面11aで全反射条件が得られる角度で入射させる。波長選択部20により、上記界面11aにおいて全反射した光ビームLから、所定の波長の光ビームL1を選択し、その光強度分布を検出する。波長選択部20により迷光を除去する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
複数の波長を含み、相当の大きさの断面積をもった平行光束を、誘電体ブロックの一面に形成された薄膜層、およびこの薄膜層上に試料を保持する試料保持機構を備えてなる測定ユニットの前記誘電体ブロックを通して該誘電体ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られる角度で入射させ、 前記界面で全反射した平行光束から、所定の波長の平行光束を選択し、選択された平行光束の断面における光強度分布を測定する全反射減衰を利用した測定方法。
IPC (2)：
G01N21/27 ,  G01N21/03
FI (2)：
G01N21/27 C ,  G01N21/03 Z
F-Term (27)：
2G057AA02 ,  2G057AB07 ,  2G057AC01 ,  2G057BA01 ,  2G057BA05 ,  2G057BB01 ,  2G057BB06 ,  2G059AA01 ,  2G059BB04 ,  2G059BB12 ,  2G059BB13 ,  2G059CC16 ,  2G059DD12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059EE11 ,  2G059GG04 ,  2G059GG10 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ06 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059KK04 ,  2G059PP04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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