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J-GLOBAL ID：200903033258903537

気体溶解装置及びそれを備える反応装置

Inventor： 檜山 圭一郎 ,  谷口 徹
Applicant, Patent owner： 冷化工業株式会社
Agent (1)： 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993046761
Publication number (International publication number)：1994086921
Application date： Mar. 08, 1993
Publication date： Mar. 29, 1994
Summary：

【要約】【目的】 気体の溶解効率の高い気体溶解装置を提供し、気体が必要な化学反応や酵素反応の反応効率を高める。【構成】 貯留槽21の内部に、気体を液体に加圧供給する加圧フレーム23を設置し、この加圧フレーム23の下方に、液体を撹拌すると共に下方へ移動させる撹拌装置25を設置する。これにより、加圧フレーム23の開放口23a付近の気液界面において気体の加圧供給が行われ、貯留槽21内の液面において既存の溶存気体の放散が効率良く行われるので、効率よく気体を溶解させることが可能となる。そして、このような気体溶解装置を備えたバイオリアクタ40は、効率よく気体が溶解した状態で、貯留槽21内の固定化酵素41に液体培地を供給することができるため、反応効率が向上する。

Claim (excerpt)：

所定の気体を液体に溶解させる装置であって、排気口を備え、内部に液体を貯留する貯留槽と、この貯留槽に設置され、この貯留槽に貯留されている液体の液面の一部を覆い、かつ当該液面下に開放口を有する加圧フレームと、貯留槽内の液体に溶解させる気体を前記加圧フレーム内に加圧供給する気体供給手段と、前記加圧フレームの開放口の下方の液体を撹拌する撹拌手段と、を含み、溶解させる気体のみを前記加圧フレーム内の液面に加圧供給することにより、当該気体の溶解効率を向上させることを特徴とする気体溶解装置。

IPC (2)：

B01F 1/00 ,  C12M 1/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 曝気方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-359848   Applicant：日立機電工業株式会社