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J-GLOBAL ID：200903033274213559

要浄化水域内の水質保全及び浄化装置

Inventor：
町井 弘禧

About 町井 弘禧


Applicant, Patent owner：
ユーシン電機株式会社

About ユーシン電機株式会社


Agent (1)： 木幡 行雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999186888
Publication number (International publication number)：2001009489
Application date： Jun. 30, 1999
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 処理条件を整えて、粒状濾材に生息する多種の微生物による要処理水の浄化効率を向上させた要浄化水域内の水質保全及び浄化装置の提供。【解決手段】 水槽tの底部に配した台座1と、水槽tの底部と台座1との間に配した処理水循環用の循環配管2と、循環配管2の途中に配した磁気手段5と、台座1上に載置した粒状濾材4とからなる。台座1は、多数の流通孔1aを表裏貫通させた座板1bと、その裏面側に配した複数の脚体1cとからなる。循環配管2は、台座1の下方に配した集水配管2aと、集水配管2aの基部から立ち上がる直立配管2bとからなる。集水配管2aには集水孔2cが開口してあり、直立配管2bはその上端を水面s直下に開口させ、かつその途中にエア導入管を連結する。
Claim (excerpt)：
要浄化水域に於いて、その水底に、水が上下に通過し得る部材で構成した台座部材を、これと上記水底との間に水が流通し得る隙間をあけて設置し、かつ上記台座部材上に粒状濾材を配し、加えて上記台座部材の下方と上方との間を流通する水の強制流通を生起させる強制流通手段を配設するとともに、これによって流通される水に磁気作用を加える磁気手段を配設した要浄化水域内の水質保全及び浄化装置。
IPC (3)：
C02F 3/10 ,  C02F 1/48 ,  C02F 3/20
FI (3)：
C02F 3/10 A ,  C02F 1/48 A ,  C02F 3/20 D
F-Term (19)：
4D003AA01 ,  4D003AB13 ,  4D003BA02 ,  4D003CA10 ,  4D003EA14 ,  4D003EA19 ,  4D003EA24 ,  4D029AA01 ,  4D029AA09 ,  4D029AB05 ,  4D029BB11 ,  4D029BB13 ,  4D061DA06 ,  4D061DA09 ,  4D061DB06 ,  4D061EA18 ,  4D061EC05 ,  4D061ED06 ,  4D061FA15
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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