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J-GLOBAL ID：200903033286287680

ポリオルガノシロキサンの製造方法

Inventor：
中西 直明

About 中西 直明


Applicant, Patent owner：
鐘淵化学工業株式会社

About 鐘淵化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998005251
Publication number (International publication number)：1999199672
Application date： Jan. 14, 1998
Publication date： Jul. 27, 1999
Summary：
【要約】【課題】 ポリオルガノシロキサンと2種以上の炭素-炭素二重結合を含有する有機化合物との反応(ヒドロシリル化)を常に高い反応率で行う。【解決手段】 (A)ポリオルガノハイドロジェンシロキサンと、(B)構成元素としてC,Hのみからなり、分子内に炭素-炭素二重結合を有する有機化合物、および(C)構成元素としてO,N,S,ハロゲンのうちいずれか1種以上を含み、炭素-炭素二重結合を有する有機化合物を、触媒存在下で反応させる際に、(A)成分と(B)成分とを酸素を含む雰囲気下で反応させたのちに、(C)成分を反応させることにより、目的とする反応物が安定的に高収率で得られる。
Claim (excerpt)：
(A)式(1)および/または式(2)で表されるポリオルガノハイドロジェンシロキサンと、(B)構成元素としてC,Hのみからなり、分子内に炭素-炭素二重結合を有する有機化合物、および(C)構成元素としてO,N,S,ハロゲンのうちいずれか1種以上を含み、炭素-炭素二重結合を有する有機化合物を、触媒存在下で反応させる際に、(A)成分と(B)成分とを酸素を含む雰囲気下で反応させ、反応が完結したのちに、(C)成分を反応させることを特徴とする、ポリオルガノシロキサンの製造方法。【化1】(ただし、m≧1、n,l≧0、1≦(m+n)×l≦80であり、R1,R2,R3,R4は水素又は炭素数1〜20の炭化水素基を示す。)、【化2】(ただし、m≧1、n,q≧0、3≦(m+n)×l≦20であり、R1,R2は水素又は炭素数1〜20の炭化水素基を示す。)、
IPC (2)：
C08G 77/06 ,  C08G 77/12
FI (2)：
C08G 77/06 ,  C08G 77/12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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