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J-GLOBAL ID：200903033440449744
ラジカル分子を内包してなる金属錯体
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大石 治仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004065710
Publication number (International publication number)：2005255545
Application date： Mar. 09, 2004
Publication date： Sep. 22, 2005
Summary：
【課題】 中空金属錯体の内部空間に、ラジカル分子が内包された新規な金属錯体を提供する。【解決手段】 2,4,6-トリス(4’-ピリジル)-1,3,5-トリアジンの4分子と、2,2’-ビピリジルパラジウム(II)ジ硝酸塩6分子とを反応させて得られる内部空間を有するパラジウムの金属錯体に、2個の有機ラジカル分子を内包させることに成功した。そして、パラジウムの金属錯体が形成する孤立三次元空間に内包された2個のラジカル分子は、ラジカル分子のスピン中心間距離が短く配置されているために、孤立三次元空間に内包されていない場合には観測されない新しい特性を発現することを見出した。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
中空金属錯体の内部空間に、ラジカル分子を内包してなることを特徴とする金属錯体。
IPC (4)：
C07D213/22
, C07D233/04
, C07D239/26
, C07D403/14
C07D213/22
, C07D233/04
, C07D239/26
, C07D403/14
4C055AA01
, 4C055BA02
, 4C055BA25
, 4C055CA01
, 4C055DA01
, 4C055EA01
, 4C055GA02
, 4C063AA05
, 4C063BB01
, 4C063CC43
, 4C063DD12
, 4C063EE10
, 4H050AA01
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent：
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