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J-GLOBAL ID:200903033491037130

美容処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須山 佐一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008046225
Publication number (International publication number):2008264507
Application date: Feb. 27, 2008
Publication date: Nov. 06, 2008
Summary:
【課題】装置内に起電力発生手段を組み込み、マッサージをする毎に発電できる機構とすることで、場所、時間気にせず美容処理を行える美容処理装置を提供する。【解決手段】美容処理装置が、支持杆と支持杆に接続されるグリップと支持杆に同軸的かつ回転自在に被嵌され美容処理対象の肌面上を転動される筒状のヘッドとヘッドの回転により電力を発生する電力発生手段とヘッドに配置され前記電力発生手段によって発電された電力に基づき皮膚を刺激する皮膚刺激手段とを具備する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
支持杆と、 前記支持杆に接続されるグリップと、 前記支持杆に同軸的かつ回転自在に被嵌され美容処理対象の肌面上を転動される筒状のヘッドと、 前記ヘッドの回転により電力を発生する電力発生手段と、 前記ヘッドに配置され、前記電力発生手段によって発電された電力に基づき皮膚を刺激する皮膚刺激手段と、 を具備することを特徴とする美容処理装置。
IPC (5):
A61H 23/02 ,  A61N 5/06 ,  A61N 1/32 ,  H02K 35/02 ,  H02N 2/00
FI (8):
A61H23/02 386 ,  A61H23/02 330 ,  A61H23/02 360 ,  A61H23/02 390 ,  A61N5/06 Z ,  A61N1/32 ,  H02K35/02 ,  H02N2/00 A
F-Term (27):
4C053JJ02 ,  4C053JJ04 ,  4C053JJ08 ,  4C053JJ12 ,  4C053JJ21 ,  4C053JJ33 ,  4C053JJ36 ,  4C074AA05 ,  4C074BB01 ,  4C074CC01 ,  4C074DD01 ,  4C074EE02 ,  4C074EE04 ,  4C074FF01 ,  4C074FF05 ,  4C074GG01 ,  4C074HH03 ,  4C082PA02 ,  4C082PC01 ,  4C082PC09 ,  4C082PE10 ,  4C082PG12 ,  4C082PG16 ,  4C082PJ01 ,  4C082PJ21 ,  4C082PJ26 ,  4C082PL10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 美肌装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-209009   Applicant:ヤーマン株式会社
  • 美顔処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-297266   Applicant:株式会社水研
Cited by examiner (3)

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