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J-GLOBAL ID：200903033751768754
発光体蒸着膜のパタ-ン形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999294176
Publication number (International publication number)：2000194143
Application date： Oct. 15, 1999
Publication date： Jul. 14, 2000
Summary：
【要約】【課題】 耐熱性のある絶縁膜を得る。【解決手段】 露光後の感光性樹脂膜パターンを、当該膜パターンの耐熱温度±10°Cの間で加熱しながら、紫外線照射を行うことで感光性樹脂膜の耐熱性を向上させる。
Claim (excerpt)：
基板上に、感光性樹脂組成物を塗布し、成膜して得られた樹脂膜をパターン状に露光した後、現像し、次いで、得られた膜パターンを有する基板上に発光体を蒸着させる発光体蒸着膜のパターン形成方法において、露光後の感光性樹脂膜パターンを加熱しながら紫外線照射を行い、且つ、加熱条件が?@(当該膜パターンの耐熱温度-10°C)≦加熱開始温度<当該膜パターンの耐熱温度、?A当該膜パターンの耐熱温度≦加熱終了温度≦(当該膜パターンの耐熱温度+10°C)であり、さらに?B加熱開始後から終了前までの温度は当該膜パターンの耐熱温度±10°Cの範囲内である工程を有することを特徴とする発光体蒸着膜のパターン形成方法。
IPC (6)：
G03F 7/40 521
, C09K 11/02
, C23C 14/24
, C08J 7/04
, H05B 33/10
, H05B 33/14
G03F 7/40 521
, C09K 11/02 A
, C23C 14/24 R
, C08J 7/04 Z
, H05B 33/10
, H05B 33/14 A
