オゾンを処理対象の流体、特に水、と接触させる方法及び装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山本亮一 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998545138
Publication number (International publication number)：2001523154
Application date： Apr. 07, 1998
Publication date： Nov. 20, 2001
Summary：

【要約】流体、特に水、をオゾンによって処理するために、オゾン発生器(14)、及び処理対象の流体にオゾンを溶解するための、単相液体条件のもとで操業するプラグ流れ反応器から成るタイプの、U字管のような装置(21)を使って、オゾンを流体、特に水、と接触させる方法において、前記方法が、前記オゾン発生器(14)によって発生するオゾン化されたガスを圧力のもとで処理対象の流体の流れに注入することにあり、この注入は、ガスの微細気泡を得るように行なわれることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

流体、特に水、をオゾンによって処理するために、オゾン発生器(14)、及び処理対象の流体にオゾンを溶解するための、単相液体条件のもとで操業するプラグ流れ反応器から成るタイプの、U字管のような装置(21)を使って、オゾンを流体、特に水、と接触させる方法において、前記方法が、前記オゾン発生器(14)によって発生するオゾン化されたガスを圧力のもとで処理対象の流体の流れに注入することにあり、この注入は、ガスの微細気泡、即ちオゾン化されたガスが処理対象の流体に注入されたのち、直径が10μmと500μmの間の気泡、を得るように実施されることを特徴とする前記方法。

IPC (3)：

C02F 1/78 , B01F 1/00 , B01F 3/04

FI (3)：

C02F 1/78 , B01F 1/00 A , B01F 3/04 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

高濃度オゾン水製造方法及び高濃度オゾン水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-053982 Applicant：長廣仁蔵
特表平1-502650
特開平2-214594

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