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J-GLOBAL ID:200903033875061578

電子ビーム源用のパターン化された熱伝導フォトカソード

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷川 芳樹 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2001514446
Publication number (International publication number):2003506823
Application date: Jul. 21, 2000
Publication date: Feb. 18, 2003
Summary:
【要約】突出部を画定するようにパターン化された光学的に伝達可能な基板と、突出部を囲む空間を占める熱伝達材料と、突出部にわたったフォトエミッタ層とを有する、電子ビーム源としてのフォトカソードエミッタが提供される。フォトエミッタは、照明が入射する表面と反対側にある基板側に配置され、基板上にパターン化された突出部の上部と接触する照射領域と、照射領域の反対側にある放出領域とを有し、これらの領域は、照明の経路により画定される。突出部の周囲にある熱伝導材料は、このようにフォトカソードに集束された照明領域から熱を伝導する。金、銅および白金等の熱伝導性材料の熱伝率は、フォトカソードに通常使用される基板である溶融シリカの少なくとも200倍よりも大きい。これにより、照射領域/放出領域のインタフェースから効率的に熱が外へ伝導されるため、より高い電流がフォトカソードから得られる。これにより、電子ビームリソグラフィを含む応用において、より高いスループット速度が達成される。
Claim (excerpt):
フォトカソードデバイスであって、 照明に対して光学的に伝達可能な基板であって、入射照明を受け入れる背面及び対抗する前面を有する、前記基板と、 前記前面上の熱伝導材料であって、前記熱伝導材料は前記基板の突出部を収容し、前記突出部は先端部で終端する、前記熱伝導材料と、 前記先端部にわたったフォトエミッタであって、前記フォトエミッタは、前記基板に照射領域及び前記照射領域の反対側に放出領域を有するものであって、前記照明に露光されると電子ビームを放出する、前記フォトエミッタと、 を備える、フォトカソードデバイス。
IPC (4):
H01J 37/073 ,  H01J 1/34 ,  H01J 9/12 ,  H01L 21/027
FI (4):
H01J 37/073 ,  H01J 1/34 Z ,  H01J 9/12 A ,  H01L 21/30 541 B
F-Term (5):
5C027EE01 ,  5C027EE07 ,  5C030CC02 ,  5F056AA23 ,  5F056EA02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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