Pat
J-GLOBAL ID：200903033994895126

SiH基含有化合物の製造方法

Inventor：
一柳 典克

About 一柳 典克

, 
藤田 雅幸

About 藤田 雅幸

, 
大内 克哉

About 大内 克哉


Applicant, Patent owner：
株式会社カネカ

About 株式会社カネカ


Agent (1)： 安富 康男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005164261
Publication number (International publication number)：2006335718
Application date： Jun. 03, 2005
Publication date： Dec. 14, 2006
Summary：
【課題】 SiH基を有するポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせずに、ゲル化することなく、低粘度の、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、(B)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、(C)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させることを特徴とする、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物の製造方法。
IPC (2)：
C07F 7/21 ,  C08G 77/48
FI (2)：
C07F7/21 ,  C08G77/48
F-Term (53)：
4H049VN01 ,  4H049VP09 ,  4H049VQ54 ,  4H049VQ59 ,  4H049VQ87 ,  4H049VR11 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR42 ,  4H049VS02 ,  4H049VS87 ,  4H049VT17 ,  4H049VT30 ,  4H049VU12 ,  4H049VU17 ,  4H049VW02 ,  4H049VW32 ,  4J246AA11 ,  4J246AB05 ,  4J246AB13 ,  4J246BA02X ,  4J246BA020 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB021 ,  4J246BB24X ,  4J246BB240 ,  4J246BB241 ,  4J246BB27X ,  4J246BB270 ,  4J246BB271 ,  4J246BB34X ,  4J246BB340 ,  4J246BB342 ,  4J246BB36X ,  4J246BB360 ,  4J246BB361 ,  4J246CA01X ,  4J246CA010 ,  4J246CA230 ,  4J246CA24X ,  4J246CA56M ,  4J246CA56X ,  4J246CA68M ,  4J246CA68X ,  4J246CA680 ,  4J246FA222 ,  4J246FA452 ,  4J246GA04 ,  4J246GA08 ,  4J246GA11 ,  4J246GB04 ,  4J246HA57
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
Show all
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM