光波形整形装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川芳樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001124598
Publication number (International publication number)：2002318354
Application date： Apr. 23, 2001
Publication date： Oct. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】波長分散特性を充分に変化させることが可能な光波形整形装置を提供する。【解決手段】ゲル状の物質内にシリカやチタン酸バリウムの微小球または気泡を複数含有させて可塑性のホトニック結晶2とし、入力光に波長分散を与える分散媒質として用いる。このホトニック結晶2に対して、波長分散制御手段を構成している外力印加手段3によって外力を印加すると、ホトニック結晶2が変形し、そのホトニックバンド構造と、バンド構造に伴う波長分散特性とが容易に変化する。これにより、外力を印加することによって、波長分散特性を充分に変化させることが可能な光波形整形装置が実現される。

Claim (excerpt)：

所定波長帯域内の入力光に対して、所定の波長分散を発生させる光波形整形装置であって、ホトニックバンド構造と、波長毎に屈折率が異なる波長分散特性とを有し、かつ、外力または外場を印加することにより前記波長分散特性が変化する可塑性のホトニック結晶からなる分散媒質と、前記ホトニック結晶の前記波長分散特性を保持または変化させる波長分散制御手段とを備えることを特徴とする光波形整形装置。

IPC (2)：

G02B 26/00 , G02F 1/01

FI (2)：

G02B 26/00 , G02F 1/01 F

F-Term (15)：

2H041AA21 , 2H041AB10 , 2H041AB38 , 2H041AC02 , 2H041AC07 , 2H041AZ00 , 2H079AA07 , 2H079AA12 , 2H079AA13 , 2H079BA01 , 2H079CA04 , 2H079DA03 , 2H079EB24 , 2H079FA01 , 2H079KA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

波長分散補償器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-298532 Applicant：日本電気株式会社
光素子及び分波器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-271378 Applicant：株式会社東芝
周期性を示す材料を含む物品を製造する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-142466 Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド

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