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J-GLOBAL ID：200903034074717060

光ディスク基板の製造方法

Inventor：
徳田 俊正

About 徳田 俊正


Applicant, Patent owner：
帝人化成株式会社

About 帝人化成株式会社


Agent (1)： 前田 純博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995135053
Publication number (International publication number)：1996329535
Application date： Jun. 01, 1995
Publication date： Dec. 13, 1996
Summary：
【要約】【目的】 ピットを正確に転写し、表面にピット以外の凹凸欠陥がなく且つ吸湿による反りの少ない高密度記録容量を有する光ディスク基板を提供する。【構成】 全芳香族ジヒドロキシ成分の少なくとも20モル%が1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンであるポリカーボネート樹脂より実質的に形成され、該ポリカーボネート樹脂はその0.7g を塩化メチレン100mlに溶解した溶液の20°Cにおいて測定された比粘度が0.2〜0.5であり、該ポリカーボネート樹脂を用いて型締力10〜75トン、樹脂温度290〜360°C、金型温度100〜140°Cで射出成形することを特徴とする光ディスク基板の製造方法。
Claim (excerpt)：
全芳香族ジヒドロキシ成分の少なくとも20モル%が1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンであるポリカーボネート樹脂より実質的に形成され、該ポリカーボネート樹脂はその0.7g を塩化メチレン100mlに溶解した溶液の20°Cにおいて測定された比粘度が0.2〜0.5であり、該ポリカーボネート樹脂を用いて型締力10〜75トン、樹脂温度290〜360°C、金型温度100〜140°Cで射出成形することを特徴とする光ディスク基板の製造方法。
IPC (3)：
G11B 7/26 521 ,  C08G 64/06 NPT ,  G11B 7/24 526
FI (3)：
G11B 7/26 521 ,  C08G 64/06 NPT ,  G11B 7/24 526 H
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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