金属膜加工残り検査方法および金属膜加工残り検査装置およびそれを用いた薄膜デバイスの製造方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木市郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002146372
Publication number (International publication number)：2003338493
Application date： May. 21, 2002
Publication date： Nov. 28, 2003
Summary：

【要約】【課題】パターン形成される金属薄膜の平坦化加工後の金属膜加工残りを、自動的に的確に検査できるようにすること。【解決手段】光学的に透明な薄膜と金属薄膜が混在する試料に光を照射し、該光の照射により試料から発生する反射光を検出し、該検出した反射光の反射強度もしくは反射率に基づいて、CMP後の金属膜加工残りの有無を判定する。

Claim (excerpt)：

光学的に透明な薄膜と金属薄膜が混在する試料に白色光または単色光を照射し、該白色光または単色光の照射により前記試料から発生する反射光を検出し、該検出した反射光の反射強度もしくは反射率に基づいて、金属膜の平坦化加工後の金属膜加工残りの有無を検出することを特徴とする金属膜加工残り検査方法。

IPC (5)：

H01L 21/3065 , B24B 37/04 , H01L 21/02 , H01L 21/304 621 , H01L 21/304 622

FI (5)：

B24B 37/04 K , H01L 21/02 Z , H01L 21/304 621 D , H01L 21/304 622 S , H01L 21/302 103

F-Term (8)：

3C058AA07 , 3C058AC02 , 3C058CA01 , 3C058CB03 , 3C058DA12 , 5F004CB09 , 5F004CB15 , 5F004CB20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

メタル残膜判定方法およびメタル残膜判定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-136786 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
機械化学研磨装置用の平坦化過程モニター装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-014042 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
薄膜の膜厚計測方法及びその装置並びにそれを用いた薄膜デバイスの製造方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-121251 Applicant：株式会社日立製作所

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