レーザー分光分析装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：木戸一彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999197984
Publication number (International publication number)：2001021493
Application date： Jul. 12, 1999
Publication date： Jan. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】簡単な構成でフリンジノイズの影響を低減することができ、さらに、リファレンスセルも、最小のコスト、最小のスペースで効果的に設置することができるレーザー分光分析装置を提供する。【解決手段】光検出器12,15の受光面12a,15aを光軸C1,C2に対して所定角度傾斜させて配置する。また、光検出器12の受光面12aで反射したレーザー光の光路に、測定対象物を封入したリファレンスセル16を設けるとともに、該リファレンスセル16を通過したレーザー光の光強度を測定する光検出器17を設ける。

Claim (excerpt)：

測定用レーザー光を発生させる波長可変型半導体レーザー光源と、試料ガスが導入されるサンプルセルと、該サンプルセルを通過したレーザー光の光強度を測定する第1の光検出器と、レーザー光源からのレーザー光の一部を分岐するビームスプリッターと、該ビームスプリッターで分岐したレーザー光の光強度を測定する第2の光検出器とを備えたレーザー分光分析装置において、前記光検出器の双方又はいずれか一方の受光面を光軸に対して所定角度傾斜させて配置したことを特徴とするレーザー分光分析装置。

IPC (2)：

G01N 21/39 , G01N 21/35

FI (2)：

G01N 21/39 , G01N 21/35 Z

F-Term (13)：

2G059AA01 , 2G059BB01 , 2G059CC20 , 2G059EE01 , 2G059EE11 , 2G059EE12 , 2G059FF09 , 2G059GG01 , 2G059GG02 , 2G059HH01 , 2G059JJ22 , 2G059LL01 , 2G059MM01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

分光分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-245030 Applicant：日本電気株式会社
特開平2-195233
ガス分析計
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-070593 Applicant：株式会社堀場製作所

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