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J-GLOBAL ID：200903034396370031

露光装置

Inventor：
西 健爾

About 西 健爾


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992230069
Publication number (International publication number)：1994077113
Application date： Aug. 28, 1992
Publication date： Mar. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】 自動的に高速にウエハホルダーの清掃を行う。【構成】 ウエハステージ5が所定の駆動領域内を移動したときにウエハホルダー3の全面に接触する位置に配置されたクリーニング用工具26と、クリーニング用工具26をウエハホルダー3に付勢する上下駆動軸24とを備え、クリーニング用工具26をウエハホルダー3に付勢した状態でウエハステージ5をその所定の駆動領域内で移動してウエハホルダー3のクリーニングを行う。
Claim (excerpt)：
吸着機構を有する保持部材を備え該保持部材を介して感光基板を保持して2次元平面上の所定の駆動領域内を移動するステージと、露光光を集光してマスクを照明する照明光学系とを有し、前記マスクのパターンを前記保持部材に吸着された感光基板上に露光する露光装置において、前記ステージが前記所定の駆動領域内を移動したときに前記保持部材の全面に接触する位置に配置された前記保持部材用のクリーニング部材と、該クリーニング部材を前記保持部材に付勢する付勢手段とを備え、前記クリーニング部材を前記保持部材に付勢した状態で前記ステージを前記所定の駆動領域内で移動して前記保持部材のクリーニングを行う事を特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2)：
H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 半導体露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-270430   Applicant：キヤノン株式会社
  • 露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-053017   Applicant：富士通株式会社

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