Pat
J-GLOBAL ID:200903034693535783
照射位置測定装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
橋爪 健
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000255339
Publication number (International publication number):2002071312
Application date: Aug. 25, 2000
Publication date: Mar. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 測定対象物にマーキングせずに、非接触で形状・変位・照射位置を測定する。【解決手段】 測定光源系100は、第1波長の第1光束を発する第1光源部と、第2波長の第2光束を発する第2光源部とを有し、第1及び第2光束に基づき測定光束を出射する。照明光学系300は、測定対象物を部分的に照明する第3光束を発する第3光源を有する。測定光学系200は、第1及び第2光束を、参照面に向かう参照光束と測定対象物に向かう測定光束とに分離するビームスプリッタ、参照光束を反射する参照反射鏡、及び、測定対象物から反射された反射測定光束と参照反射鏡で反射された参照反射光束とを干渉させた干渉光束と、第3光束が測定対象物から反射された第3反射光束とを受光して第1受光信号を形成する第1受光部とを有する。画像処理及び制御部600は、干渉光束による第1受光信号から測定対象物形状を示す濃淡パターンを抽出し、その濃淡パターンの移動から測定対象物の形状及び位置変化を示す対象物信号を形成する。
Claim (excerpt):
第1波長の第1光束を発する第1光源部と、第2波長の第2光束を発する第2光源部とを有し、第1及び第2光束に基づき測定光束を出射する測定光源系と、測定対象物を部分的に照明する第3光束を発する第3光源を有する照明光学系と、上記測定光源系からの第1及び第2光束を、参照面に向かう参照光束と測定対象物に向かう測定光束とに分離するビームスプリッタ、参照光束を反射する参照反射鏡、及び、測定光束が測定対象物から反射された反射測定光束と参照光束が参照反射鏡で反射された参照反射光束とを干渉させた干渉光束と、上記照明光学系からの第3光束が測定対象物から反射された第3反射光束とを受光して第1受光信号を形成する第1受光部と、を有する測定光学系と、上記測定光学系の干渉光束による第1受光信号から測定対象物形状を示す濃淡パターンを抽出し、その濃淡パターンから測定対象物の形状及び位置変化を示す対象物信号を形成する画像処理及び制御部とを備えた照射位置測定装置。
IPC (4):
G01B 11/00
, A61F 9/007
, G01B 9/02
, G01B 11/24
FI (5):
G01B 11/00 G
, G01B 11/00 H
, G01B 9/02
, A61F 9/00 570
, G01B 11/24 D
F-Term (52):
2F064AA09
, 2F064AA11
, 2F064CC04
, 2F064FF01
, 2F064GG02
, 2F064GG12
, 2F064GG20
, 2F064GG22
, 2F064GG24
, 2F064GG42
, 2F064HH03
, 2F064JJ01
, 2F064KK01
, 2F065AA03
, 2F065AA04
, 2F065AA09
, 2F065AA19
, 2F065AA53
, 2F065BB07
, 2F065BB26
, 2F065CC16
, 2F065DD04
, 2F065EE00
, 2F065EE05
, 2F065FF04
, 2F065FF56
, 2F065GG06
, 2F065GG13
, 2F065GG23
, 2F065HH03
, 2F065HH12
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ09
, 2F065JJ26
, 2F065LL02
, 2F065LL12
, 2F065LL19
, 2F065LL20
, 2F065LL22
, 2F065LL30
, 2F065NN01
, 2F065NN08
, 2F065QQ00
, 2F065QQ03
, 2F065QQ04
, 2F065QQ25
, 2F065QQ27
, 2F065QQ33
, 2F065SS02
, 2F065SS13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
光凝固装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-143109
Applicant:興和株式会社
-
特表昭60-501773
-
干渉顕微鏡装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-046390
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
干渉測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-348014
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
特開昭62-298707
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Cited by examiner (5)
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特表昭60-501773
-
特開昭62-298707
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光凝固装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-143109
Applicant:興和株式会社
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干渉顕微鏡装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-046390
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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干渉測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-348014
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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