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J-GLOBAL ID:200903034765639996
誘電体コンポジット
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中村 稔 (外6名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1998517292
Publication number (International publication number):2001502256
Application date: Oct. 06, 1997
Publication date: Feb. 20, 2001
Summary:
【要約】フレキシブルコンピュータ設計段階で、第2の誘電体コンポーネントの急速な成長を含む周期的な誘電体コンポジットの製造の新規な方法。レーザステレオリソグラフィは、液体の光重合によって層毎にポリマー材料を形成するのに使用される。この仕方で構築された所定の材料は、周波数の所望のバンドに関する材料を介してマイクロウェーブ伝搬に対して完全に損失のないバリアーを示し、フォトニックバンドギャップ結晶として一般的に知られている。かかる材料は、全角広及び狭バンドブロックフィルタ、狭バンド透過フィルタ、平面アンテナのための反射及び損失のない基板、及び、発振器キャビティ及び導波管に関する新規で損失のない媒体を提供し得る。更に、特に、上述した製造方法及び連鎖する多面体の構築に適している新規な結晶構造を示す。
Claim (excerpt):
2つの材料の周期的な空間的配置を有する誘電体コンポジットを製造する方 法であって、前記材料は十分に異なる電気的誘電率を有し、該コンポジットが 周波数の範囲に関する電磁放射に対するバリアーを提供し、 バッチモノマーの選択的局所重合によって、3次元構造を形成し、前記構造 は、高電気的誘電率材料に対応するコンポジット及びボイドの低電気的誘電率 材料を有し、 前記ボイドにおいて高誘電率材料を鋳造する、 ステップを有する方法。
IPC (2):
FI (3):
B29C 67/00
, G02B 6/12 N
, G02B 6/12 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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光機能素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-149157
Applicant:株式会社東芝
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