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J-GLOBAL ID：200903034780906976
ノッチレスウェーハの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小倉 亘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997055995
Publication number (International publication number)：1998256106
Application date： Mar. 11, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：
【要約】【課題】 レーザマーキングで結晶方位マークを刻印したノッチレスウェーハを能率よく製造する。【解決手段】 インゴットの周面研磨工程で所定の結晶方位位置に浅いノッチ1を刻設し、インゴットからスライスされたウェーハにノッチ1を基準として所定の位置にレーザマーキングで結晶方位マーク2を刻印する。次いで、面取り加工でノッチ1を除去した正円状ウェーハ7に整形する。【効果】 刻印位置がノッチ1を基準として判定されるため、従来のようにウェーハ1枚づつをX線回折装置にかける必要がなく、能率よく結晶方位マーク2が付けられる。
Claim (excerpt)：
周面研磨工程でインゴットの軸方向に延びる浅いノッチを所定の結晶方位位置に刻設し、インゴットからスライスされたウェーハにノッチを基準として所定の位置にレーザマーキングで結晶方位マークを刻印し、次いで面取り加工でノッチを除去した正円状ウェーハに整形することを特徴とするノッチレスウェーハの製造方法。
Patent cited by the Patent：
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