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J-GLOBAL ID：200903034784220769

光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法

Inventor：
荻野 雅彦

About 荻野 雅彦

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沢辺 賢

About 沢辺 賢

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鍛治 誠

About 鍛治 誠

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頼 華子

About 頼 華子


Applicant, Patent owner：
日立化成工業株式会社

About 日立化成工業株式会社


Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005272756
Publication number (International publication number)：2007084625
Application date： Sep. 20, 2005
Publication date： Apr. 05, 2007
Summary：
【課題】 基板を高精度に加工する光ナノインプリント技術に利用可能な、新規な光硬化樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリレートを主成分とする光硬化性樹脂材料と、反応性希釈剤と、光重合開始剤とを含んでいる。(メタ)アクリレートとしては骨格内にベンゼン環構造を含む構造であることが好ましい。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
微細なパターンが形成された金型を用い、前記パターン形成面を樹脂膜表面に接触させ、光照射により前記樹脂膜を硬化させ、微細なパターンを前記樹脂膜表面に形成する光硬化性樹脂材料において、前記光硬化性樹脂材料は(メタ)アクリレート、反応性希釈剤、光重合開始剤、フッ素系界面活性剤から構成されることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
IPC (6)：
C08F 20/30 ,  C08F 290/06 ,  H01L 21/027 ,  B82B 1/00 ,  B82B 3/00 ,  B29C 39/02
FI (7)：
C08F20/30 ,  C08F290/06 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 502D ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  B29C39/02
F-Term (62)：
4F204AA43 ,  4F204AA44 ,  4F204AB03 ,  4F204AF01 ,  4F204AG05 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EK17 ,  4F204EK18 ,  4F204EK24 ,  4J100AL05P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL62P ,  4J100AL62Q ,  4J100AL63P ,  4J100AL66P ,  4J100AL67P ,  4J100AM21Q ,  4J100AQ08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA08P ,  4J100BA31Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC08P ,  4J100BC43P ,  4J100BC45P ,  4J100BC75P ,  4J100BC80Q ,  4J100CA03 ,  4J100JA37 ,  4J127AA03 ,  4J127BB031 ,  4J127BB111 ,  4J127BB221 ,  4J127BC021 ,  4J127BC131 ,  4J127BC141 ,  4J127BC151 ,  4J127BD221 ,  4J127BE34Y ,  4J127BE341 ,  4J127BF24X ,  4J127BF241 ,  4J127BF27X ,  4J127BF271 ,  4J127BG05X ,  4J127BG051 ,  4J127BG14X ,  4J127BG141 ,  4J127BG17Y ,  4J127BG171 ,  4J127CB201 ,  4J127CC291 ,  4J127DA44 ,  4J127FA16 ,  5F046AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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