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J-GLOBAL ID：200903034830630578

光学式近接補正方法およびシステム

Inventor： ドナルド・ジェームズ・サミュエル ,  マシュー・アール・ワードマン
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 坂口 博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997119232
Publication number (International publication number)：1998083064
Application date： May. 09, 1997
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】 光学リソグラフィ操作中に線幅補正が可能な正確で精密な近接補正技法およびシステムを提供する。【解決手段】 非線形リソグラフィ・ツールによって引き起こされた線幅の偏差の補正を、所望の印刷線に対する必要クロム・オン・ガラス線幅を計算することによって可能とする光学近接補正方法およびシステムを開示する。線幅の補正量は、線の幅および隣接する線までの距離として定義される線のピッチのみに基づいて決定される。補正情報は空間シミュレーションによって計算され、次いで、ピッチごとに編成されて、線補正の効率のよい手段をもたらす。

Claim (excerpt)：

光学リソグラフィ・システムの非線形動作中の線要素の偏差を、光マスク上の遮光材料の幅を調節することによって補正する方法において、所定の回路パターンおよび露光システムに対して、制御線幅と制御空き空間幅によって表される制御格子を選択するステップと、前記制御格子から、前記光学リソグラフィ・システムが線形動作をする領域までの範囲にわたる複数の線/空間格子に対する空間シミュレーションから、線偏差情報を生成するステップと、前記線偏差情報から、各々が固定ピッチを有している情報のサブセットにグループ分けされた線補正情報を生成するステップと、前記光マスク上におかれる少なくとも1本の線に関して、線幅と隣接する線までの距離とを決定するステップと、前記光マスク上におかれる前記の少なくとも1本の線に関して、前記線補正情報を使用して、線要素の偏差を補正するための改変線幅を決定するステップと、前記光マスク上におかれる前記の少なくとも1本の線に関して、必要に応じ、前記の少なくとも1本の線の各々の幅を調節するステップとを備えている方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 W

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• マスクデータ又はレチクルデータの生成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-062696   Applicant：ヒユーレツト・パツカード・カンパニー
• 特開平4-133326
  
• 特開平4-133326