放射性同位元素製造装置、及びその据付方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：磯野道造 , 多田悦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005233868
Publication number (International publication number)：2007047096
Application date： Aug. 12, 2005
Publication date： Feb. 22, 2007
Summary：

【課題】ガン検診や脳や心臓の新陳代謝を検査するPET診断において、患者に注射する放射性薬剤を製造する放射性同位元素製造装置に関し、放射線障害防止法の基準を満たしつつ、主要重量物である遮蔽体を軽量化する技術を提供する。【解決手段】イオンビーム(R)を出射するイオン源(11)と、イオン源(11)から出射されたイオンビーム(R)を加速する加速器(12)と、加速したイオンビーム(R)が照射されると放射性同位元素を生成する原料水が封入されるターゲット(31)と、ターゲット(31)を略中心に配置して、ターゲット(31)から発生する放射線を遮蔽する遮蔽体(20)と、を備え、遮蔽体(20)は、ターゲット(31)を通る水平断面は、略円形又は六角以上の多角形状を有し、天地方向の両端の水平断面は絞られた形状を有していることを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

イオンビームを出射するイオン源と、前記イオン源から出射された前記イオンビームを加速する加速器と、加速した前記イオンビームが照射されると放射性同位元素を生成する原料水が封入されるターゲットと、前記ターゲットを略中心に配置して、前記ターゲットから発生する放射線を遮蔽する遮蔽体と、を備え、前記遮蔽体は、前記ターゲットを通る水平断面が、略円形又は六角以上の多角形状を有し、天地方向の両端の水平断面は絞られた形状を有していることを特徴とする放射性同位元素製造装置。

IPC (4)：

G21F 3/00 , G21G 1/10 , G21F 1/08 , G21F 1/10

FI (4)：

G21F3/00 Z , G21G1/10 , G21F1/08 , G21F1/10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

ターゲット装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-088013 Applicant：住友重機械工業株式会社

Cited by examiner (7)

特開平4-102096
核破砕中性子源施設の生体遮蔽体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-283222 Applicant：株式会社日立製作所, 日本原子力研究所
ターゲット着脱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-192344 Applicant：住友重機械工業株式会社

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