ターゲット装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：長谷川芳樹 , 寺崎史朗 , 黒木義樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003088013
Publication number (International publication number)：2004294300
Application date： Mar. 27, 2003
Publication date： Oct. 21, 2004
Summary：

【課題】保守性の向上を図ることにより、放射性同位元素の製造効率の向上を図ることが可能なターゲット装置を提供する。【解決手段】ターゲット装置10は、第1開口部50、第2開口部52、第1開口部50と第2開口部52とを連通する第1連通孔54、及び第1連通孔54の途上に設けられており加速粒子の通過は許容して第1連通孔54を閉塞する第1分離窓22を有する第1ボディ部12と、第3開口部86、ターゲット物質を貯留するためのターゲット室74、第3開口部86とターゲット室74とを連通する第2連通孔88、及び第2連通孔88の途上に設けられており加速粒子の通過は許容して第2連通孔88を閉塞する第2分離窓66を有する第2ボディ部14と、第1ボディ部12と第2ボディ部14との間で一体的に装着され、第2開口部52と第3開口部86とが連通されるように、第1ボディ部12と第2ボディ部14とを締結する締結手段16と、を備える。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

放射性同位元素を製造するために粒子加速器に着脱されるターゲット装置であって、前記粒子加速器からの加速粒子が導入される第1開口部、導入された該加速粒子が導出される第2開口部、該第1開口部と第2開口部とを連通する第1連通孔、及び該第1連通孔の途上に設けられており該加速粒子の通過は許容して該第1連通孔を閉塞する第1分離窓を有する第1ボディ部と、前記第1ボディ部の前記第2開口部から導出された前記加速粒子が導入される第3開口部、ターゲット物質を貯留するためのターゲット室、該第3開口部と該ターゲット室とを連通する第2連通孔、及び該第2連通孔の途上に設けられており該加速粒子の通過は許容して該第2連通孔を閉塞する第2分離窓を有する第2ボディ部と、前記第1ボディ部と前記第2ボディ部との間で一体的に装着され、前記第2開口部と前記第3開口部とが連通されるように、該第1ボディ部と該第2ボディ部とを締結する締結手段と、を備えることを特徴とするターゲット装置。

IPC (3)：

G21G1/10 , G21K5/08 , H05H6/00

FI (3)：

G21G1/10 , G21K5/08 R , H05H6/00

F-Term (5)：

2G085BA17 , 2G085BD04 , 2G085BE02 , 2G085BE06 , 2G085DA03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

タ-ゲット着脱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-229663 Applicant：住友重機械工業株式会社
イオン源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-246488 Applicant：日新ハイボルテージ株式会社
低速陽電子ビーム発生方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-010602 Applicant：理化学研究所, 株式会社日本製鋼所

Cited by examiner (3)

タ-ゲット着脱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-229663 Applicant：住友重機械工業株式会社
イオン源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-246488 Applicant：日新ハイボルテージ株式会社
低速陽電子ビーム発生方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-010602 Applicant：理化学研究所, 株式会社日本製鋼所

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