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J-GLOBAL ID：200903034844849815

塗布方法及び装置

Inventor： 時政 泰彦 ,  片桐 良伸
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小林 和憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002037196
Publication number (International publication number)：2003236434
Application date： Feb. 14, 2002
Publication date： Aug. 26, 2003
Summary：

【要約】【課題】 スロットダイコーター及びスライドビードコーターでの高精度塗布における段状ムラを改善する。【解決手段】 上流側リップランド長さが1mm、下流側リップランド長さが50μmのスロットダイ13で、ウエブ12上に塗布液を塗布し、湿潤膜厚5μmの塗布を実施した。ウエブ12にはセルローストリアセテート基材を用い、塗布液には液晶性化合物のメチルエチルケトン溶液を使用した。スロットダイ13の先端リップ17とウェブ12との隙間を50μm、減圧チャンバー30のバックプレート30aとウェブ12との隙間、及びサイドプレート30bとウェブ12との隙間をともに100μm、減圧度を1600Paに設定した。ビード形成時の減圧度の変動幅は80Paで、塗膜14bに段状ムラは認められなかった。

Claim (excerpt)：

ウェブに近接させたスロットダイコーターまたはスライドビードコーターのダイの先端リップからウェブにかけてビードを形成し、前記ビード近傍を、バックプレートを有する減圧チャンバーにより減圧して、バックアップロール上の前記ウェブに塗布液を塗布する方法において、前記バックプレートと前記ウェブとの隙間を、前記先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくなるように、前記減圧チャンバーを設置することを特徴とする塗布方法。

IPC (4)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 ,  B05D 7/00 ,  G11B 5/842

FI (4)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 7/00 A ,  G11B 5/842 Z

F-Term (40)：

4D075AC02 ,  4D075AC16 ,  4D075AC72 ,  4D075AC78 ,  4D075AC80 ,  4D075AC93 ,  4D075BB56Y ,  4D075CA47 ,  4D075CA48 ,  4D075DA04 ,  4D075DB01 ,  4D075DB02 ,  4D075DB07 ,  4D075DB18 ,  4D075DB31 ,  4D075DB33 ,  4D075DB36 ,  4D075DB38 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075DB63 ,  4D075DB64 ,  4D075DC24 ,  4D075DC27 ,  4D075DC28 ,  4D075EA05 ,  4D075EA21 ,  4D075EA45 ,  4D075EB19 ,  4F041AA11 ,  4F041AB01 ,  4F041BA12 ,  4F041BA21 ,  4F041BA56 ,  4F041CA02 ,  4F041CA03 ,  4F041CA13 ,  4F041CA22 ,  4F041CA25 ,  5D112CC01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 塗布装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-154708   Applicant：コニカ株式会社
• 塗布装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-209198   Applicant：コニカ株式会社

Cited by examiner (3)

• 塗布装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-154708   Applicant：コニカ株式会社
• 塗布装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-209198   Applicant：コニカ株式会社
• 特開昭62-197176