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J-GLOBAL ID:200903034899452140

レジスト成分からの金属不純物の除去方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992234495
Publication number (International publication number):1993234877
Application date: Sep. 02, 1992
Publication date: Sep. 10, 1993
Summary:
【要約】【目的】 レジスト成分から金属不純物をとり除くための方法の提供。【構成】 (a) 溶媒中にレジスト成分を溶解し;(b) 第4級アンモニウム化合物溶液によりカチオン交換樹脂を洗浄し;(c) この前洗浄したカチオン交換樹脂をレジスト成分の溶液と接触させて、前記レジスト成分の溶液から金属不純物を除去し;そして(d) 前記レジスト成分溶液から金属不純物を担持している前記カチオン交換樹脂を分離するの各工程からなる。
Claim (excerpt):
(a) 溶媒中にレジスト成分を溶解し;(b) 第4級アンモニウム化合物溶液によりカチオン交換樹脂を洗浄し;(c) この前洗浄したカチオン交換樹脂をレジスト成分の溶液と接触させて、前記レジスト成分の溶液から金属不純物を除去し;そして(d) 前記レジスト成分溶液から金属不純物を担持している前記カチオン交換樹脂を分離するの各工程を特徴とするレジスト成分から金属不純物を除去する方法。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/004 501
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • レジスト成分からの不純物の除去方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-234496   Applicant:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
  • 特開昭63-126502
  • 特開昭59-176303
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