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J-GLOBAL ID：200903078467779510

レジスト成分からの不純物の除去方法

Inventor：
ケンジ・ホンダ

About ケンジ・ホンダ


Applicant, Patent owner：
オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド

About オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド


Agent (1)： 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992234496
Publication number (International publication number)：1993234878
Application date： Sep. 02, 1992
Publication date： Sep. 10, 1993
Summary：
【要約】【目的】 レジスト成分からの不純物の除去方法の提供。【構成】 (a) 溶媒にレジスト成分を溶解し、(b) 前記レジスト成分溶液を繊維状イオン交換樹脂と十分な時間接触させて前記繊維状イオン交換樹脂上に不純物の少なくとも一部を除去し、そして(c) 前記レジスト成分溶液から前記イオン性不純物を持つ前記繊維状イオン交換樹脂を分離する工程を特徴とする。
Claim (excerpt)：
(a) 溶媒にレジスト成分を溶解し、(b) 前記レジスト成分溶液を繊維状イオン交換樹脂と十分な時間接触させて前記繊維状イオン交換樹脂上に不純物の少なくとも一部を除去し、そして(c) 前記レジスト成分溶液から前記イオン性不純物を持つ前記繊維状イオン交換樹脂を分離する工程を特徴とするレジスト成分からの不純物の除去方法。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/004 501
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • レジスト成分からの金属不純物の除去方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-234495   Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
  • 特開昭63-126502
  • 特開昭59-176303
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