自動フォトマスク検査装置及び方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995177462
Publication number (International publication number)：1996076359
Application date： Jul. 13, 1995
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】低コスト且つ誤謬の少ない欠陥探索並びにその型分類を自動的に行なう基板検査装置とその方法、特にマスク・レチクル等の基板に於いて欠陥粒子及び設計者の意図とは異なる欠陥図形を探索発見する自動検査と、それ等欠陥の型の自動分類とを行なう基板検査装置及びその自動検査方法を提供する。【解決手段】光ビームを発生し、その光ビームをして一定の光路を通過せしめ検査基板の上の表面にほぼ実質的に直角入射するようにする照明系、その光路に対して同軸になるように調整して透過光を集めて検出する透過光検出器34、同様に反射光を集めて検出する反射光検出器36とそれぞれの電気信号を互いに比較して比較値を提供する為の比較器、別にその比較値の期待値を得て比較値とその期待値との一致性を判定するプロセッサにて構成する。

Claim (excerpt)：

基板上の不必要な欠陥粒子及び設計者の意図とは異なる欠陥図形を探索発見する事を目的とする基板検査装置に於て、前記基板は上面並びに下面の両面を有し、光ビームを発生し、その光ビームをして一定の光路を通過せしめ前記基板の上の表面にほぼ実質的に直角入射するようにした照明系と、前記基板の下の表面にほぼ隣接して設置し、上述の決められた光路に関してそれと同軸になるように調整して、光ビームの透過した一部を検出する事が出来るように配備し、前記光ビームの透過光に対応する電気信号が得られるようにする透過光検出器と、同様に前記基板の上の表面にほぼ隣接して設置し、上述の決められた光路に関してそれと同軸になるようにして、光ビームの内基板のある点を反射した一部を検出する事が出来るように配備する事に依り、光ビームの反射光に対応する電気信号が得られるようにする反射光検出器と、前記透過、反射各々の光から得た電気信号を入力するようにして基板上同一点に於て透過光と反射光を互いに比較して比較値を提供する為の比較器と、前記比較値の期待値を記憶保存させる為の第1のメモリと、前記比較器と第1メモリに結合して比較値と期待値との関係を判断してその結果を報告するプロセッサと、を具備することを特徴とする基板検査装置。

IPC (4)：

G03F 1/08 , G01N 21/88 , H01L 21/027 , H01L 21/66

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

特開平3-209843
印刷物検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-278696 Applicant：株式会社イーゼル
特開平4-107946

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Cited by examiner (15)

特開平3-209843
印刷物検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-278696 Applicant：株式会社イーゼル
特開平4-107946

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