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J-GLOBAL ID:200903034960595057

硫酸基の脱離を抑えた硫酸化多糖の低分子化物およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 田中 光雄 ,  山崎 宏 ,  元山 忠行 ,  冨田 憲史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008050534
Publication number (International publication number):2008266299
Application date: Feb. 29, 2008
Publication date: Nov. 06, 2008
Summary:
【課題】安価かつ短時間の処理で済み、しかも分子量制御が容易で、低分子化後の硫酸基保持率が高い、低分子化フコイダンの製造方法、およびかかる方法により得られる低分子化フコイダンを提供する。【解決手段】硫酸基の脱離を伴わない低分子化フコイダンの製造方法であって、硫酸基が脱離しない水熱条件下にフコイダンの水溶液を保持することを特徴とする方法、フコイダンの水溶液のpHを中性付近〜アルカリ性に調整後、硫酸基が脱離しない水熱条件下にフコイダンの水溶液を保持することを特徴とする方法、ならびにこれらの方法により得ることのできる低分子化フコイダン。【選択図】なし
Claim (excerpt):
硫酸基の脱離を伴わない低分子化フコイダンの製造方法であって、硫酸基が脱離しない水熱条件下にフコイダンの水溶液を保持することを特徴とする方法。
IPC (2):
C07H 3/06 ,  C08B 37/00
FI (2):
C07H3/06 ,  C08B37/00 H
F-Term (10):
4B018MD67 ,  4B018ME08 ,  4B018ME14 ,  4B018MF14 ,  4C057AA30 ,  4C057BB01 ,  4C057BB04 ,  4C090AA03 ,  4C090BC04 ,  4C090CA31
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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