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J-GLOBAL ID：200903034985888938

積層体の製造方法

Inventor：
鈴木 直純

About 鈴木 直純


Applicant, Patent owner：
三井・デュポンポリケミカル株式会社

About 三井・デュポンポリケミカル株式会社


Agent (1)： 山口 和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993300818
Publication number (International publication number)：1995125161
Application date： Nov. 08, 1993
Publication date： May. 16, 1995
Summary：
【要約】【目的】 低温加工条件下でしかもラミネート厚みを薄くした場合でも優れた層間接着強度を有する、基材にエチレン系重合体が押し出しラミネートされた積層体の製造方法の提供。【構成】 基材にエチレン系重合体を押し出しラミネートするに際し、エチレン系重合体の溶融膜をオゾン処理し、このオゾン処理面をコロナ処理した直後の基材に圧着することを特徴とする、エチレン系重合体、特にエチレン・(メタ)アクリル酸共重合体又はそのアイオノマーでラミネートされた積層体の製造方法。
Claim (excerpt)：
基材にエチレン系重合体を押し出しラミネートするに際し、エチレン系重合体の溶融膜をオゾン処理し、このオゾン処理面をコロナ処理した直後の基材に圧着することを特徴とする積層体の製造方法。
IPC (7)：
B32B 27/32 ,  B32B 27/32 101 ,  B29C 63/02 ,  B32B 27/16 ,  B32B 27/28 101 ,  C08J 7/00 CES ,  C08J 7/00 303
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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