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J-GLOBAL ID：200903035014099860

二酸化チタン被膜の形成法

Inventor： 杉本 敏明 ,  畠中 要
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000211519
Publication number (International publication number)：2002029748
Application date： Jul. 12, 2000
Publication date： Jan. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】 光触媒活性が高く、光触媒活性を長期間維持できる二酸化チタン被膜の形成法。【解決手段】 チタン化合物を含む流体を基体に接触させ、該チタン化合物の分解温度以上で分解せしめて基体表面に二酸化チタン被膜を形成する方法において、前記流体中に有機系または無機系のフッ素化合物を添加した二酸化チタン被膜の形成法。

Claim (excerpt)：

チタン化合物を含む流体を基体に接触させ、該チタン化合物の分解温度以上で分解せしめて基体表面に二酸化チタン被膜を形成する方法において、前記流体中に有機系または無機系のフッ素化合物を添加したことを特徴とする二酸化チタン被膜の形成法。

IPC (2)：

C01G 23/04 ,  C03C 17/25

FI (2)：

C01G 23/04 C ,  C03C 17/25 A

F-Term (11)：

4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G059AA01 ,  4G059AA04 ,  4G059AA11 ,  4G059AC21 ,  4G059AC22 ,  4G059EA04 ,  4G059EB06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 防曇防汚ガラス物品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-340904   Applicant：日本板硝子テクノリサーチ株式会社, 日本板硝子株式会社
• 防曇性コーティングを備えた透明基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-160509   Applicant：東陶機器株式会社
• 特開平4-280802