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J-GLOBAL ID:200903035023754138

ゼオライト膜およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000590845
Publication number (International publication number):2002533216
Application date: Dec. 29, 1999
Publication date: Oct. 08, 2002
Summary:
【要約】本発明は、多孔質セラミック材料の少なくとも1つの表面および関連する気孔を被覆する、均一に薄い、実質的に連続したゼオライト結晶層がその上に被覆された、実質的に焼結されたモノリシック多孔質セラミック基体を含む支持されたゼオライト構造体に関する。ゼオライト結晶層は、ゼオライト結晶の1つの層から構成され、成長を増加させる層、選択性を向上させる層、または修復層のいずれをも含まず、それによって結晶が実質的に円柱状断面を示す配向構造を示す。好ましくは、多孔質セラミック基体の支持体は、分析された酸化物基準で、10-90重量%のアルミナを含み、コージエライト、ムライト、アルミナ、および/またはそれらの混合物からなる群より選択された結晶相集合体を示す。ここに開示されたゼオライト膜を形成する方法も提供する。その方法は、概して、多孔質セラミック基体を提供し、この基体を、酸化ナトリウムまたは水酸化ナトリウムを含み、約0.01%未満のアルミナ濃度を有する水溶液で熱水処理する各工程を含む。その溶液のpH、処理時間および温度は、これらの反応条件により、基体中のアルミナの一部が溶解し、その溶液中に実質的に核が形成させず、それによって、多孔質支持体の上に実質的に連続したゼオライトが成長するようなものである。
Claim (excerpt):
支持された合成ゼオライト膜において、 多孔質セラミック材料から構成された実質的に焼結されたモノリシック基体、および 該多孔質セラミック材料の表面に直接付着し、該表面と一体となり、該多孔質セラミック材料の少なくとも1つの表面および関連する気孔を覆う、均一に薄く実質的に連続したゼオライト結晶層であって、該ゼオライト結晶層がいずれの成長増大層、選択性向上層、または修復層も含まず、該結晶層の結晶が、それによって実質的に円柱状断面を示すような配向構造を示すゼオライト結晶層、を含むことを特徴とする支持された合成ゼオライト膜。
IPC (14):
B01D 71/02 500 ,  B01D 71/02 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/10 ,  B01J 20/28 ,  B01J 20/30 ,  C01B 39/02 ,  C01B 39/22 ,  C01B 39/24 ,  C01B 39/36 ,  C01B 39/38 ,  C01B 39/52 ,  C04B 41/85 ,  B01J 20/18
FI (14):
B01D 71/02 500 ,  B01D 71/02 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/10 ,  B01J 20/28 A ,  B01J 20/30 ,  C01B 39/02 ,  C01B 39/22 ,  C01B 39/24 ,  C01B 39/36 ,  C01B 39/38 ,  C01B 39/52 ,  C04B 41/85 C ,  B01J 20/18 E
F-Term (36):
4D006GA02 ,  4D006GA41 ,  4D006MA06 ,  4D006MA31 ,  4D006MC03X ,  4D006NA45 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PB13 ,  4D006PB17 ,  4D006PB18 ,  4G066AA20C ,  4G066AA22C ,  4G066AA61B ,  4G066AA66C ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA31 ,  4G066CA51 ,  4G066FA11 ,  4G066FA21 ,  4G066FA33 ,  4G066FA36 ,  4G073BD18 ,  4G073CZ02 ,  4G073CZ04 ,  4G073CZ05 ,  4G073CZ07 ,  4G073CZ13 ,  4G073CZ16 ,  4G073CZ25 ,  4G073CZ41 ,  4G073CZ49 ,  4G073GA03 ,  4G073UA01 ,  4G073UA06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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